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BC-40A-純化水總有機碳分析儀
  • BC-40A-純化水總有機碳分析儀
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貨物所在地:北京北京市

更新時間:2025-02-17 21:00:07

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純化水總有機碳分析儀以及清潔驗證;環保測試、電子行業、食品行業等。
水中有機物的污染情況被越來越重視。TOC的檢測*,各種類型的TOC分析儀器在這些部門也得到了比較廣泛的應用。TOC分析儀/TOC測定儀由兩部分組成,高溫消解裝置,分析裝置。

純化水總有機碳分析儀總有機碳(TOC)分析儀采用雙波長紫外氧化技術,精度高、靈敏度高。高性能CPU,觸摸屏智能化控制,具有離線分析和在線分析選配功能,配制外置式打印機,人性化的設計理念,更換UV燈和泵管不用拆開機箱,操作簡單、方便,實現了分析儀器國產化。符合《中國藥典》2010版附錄 VIII R制藥用水中總有機碳測定法,滿足藥典對儀器的要求:①TOC=TC-TIC,②系統適用性試驗,③檢測靈敏度(等于或小于0.001mg/L)。

純化水總有機碳分析儀

產品特點:

1.儀器采用便攜設計,使用輕便,方便移動至取樣點。

2.采用嵌入式系統,觸摸屏設計,純中文操作方便簡易。

3.針對制藥用水(TOC含量在1000ppb以下)總有機碳含量的檢測設計,進行檢測。

4.配備大量的儲存空間,能夠存儲大量的測試數據。

5.中文打印,輸出測試參數、測試結果。

6.在使用、貯存和更換過程中不需要氣體或試劑,無移動部件,減少維修和維護成本。

7.當測試樣品濃度超過規定限度,儀器能夠自動報警,并輸出控制信號。

8.符合國家2010版《中國藥典》規定的測試方案,可以提供 IQ/OQ/PQ 服務。

性能規格:

測量范圍:0.01mg/L~1.000 mg/L(此處可調,換傳感器濃度可調整)

精 度:±4% 測試范圍,分 辨 率:0.001mg /L

分析時間:連續分析,響應時間:6分鐘之內

檢測極限:0.001mg /L,樣品溫度:1- 95℃

重復性誤差:≤ 3%,電源要求/功能:220V

顯 示 屏:彩色觸摸屏

主要特征:

1、高精度、高靈敏度,操作簡單。

2、人性化操作界面,有一鍵運行功能,自動管路清洗功能。

3、高性能CPU,觸摸屏設計,超大640*480點陣真彩顯示器。

4、不用拆開機箱更換UV燈和泵管。

5、檢測上限可設定,自動上限報警功能。

6、具有RS232數據接口,歷史數據可存儲6個月。

7、離線檢測和在線檢測可選配。

8、具有打印功能。

 

測量范圍:0.001mg/L~1.0mg/L(傳感器可定制,濃度可調節達到1000mg/L,根據式樣要求傳感器定制調節到某一段濃度范圍)

精 度:±4% 測試范圍

分 辨 率:0.001mg /L

分析時間:連續分析

響應時間:4分鐘之內

檢測極限:0.001mg /L

樣品溫度:1- 95℃

重復性誤差:≤ 3%

電源要求/功能:220V

顯 示 屏:彩色觸摸屏

工作原理

本儀器采用紫外氧化的原理,將樣品中的有機物氧化為二氧化碳,二氧化碳的測試采用的是直接電導率法,通過測試經過氧化反應的樣品的總碳含量和未經過氧化反應的樣品總無機碳的含量差值來測定總有機碳含量,即:總有機碳(TOC)=總碳(TC)-總無機碳(TIC)。

測試要點:

①鄰苯二甲酸氫鉀作為水中有機物的標準試劑,無水碳酸鈉和碳酸氫鈉作為水中無機物的標準試劑。通常要求兩類試劑均先配制成質量濃度為400mg/L(以C計)的儲備液。

②由標準儲備液逐級稀釋配制不同質量濃度的有機物、無機物標準系列溶液,分別注人燃燒管和反應管,根據吸收峰高與對應質量濃度的關系,繪制標準工作曲線。

③取適量水樣分別注入TOC的注人燃燒管和低溫反應管,所得TC和IC峰高可由標準工作曲線和計算公式得到水樣的TOC值,或由儀器直接給出結果值。

差減法原理:將一定體積的水樣連同凈化氧氣或空氣(干燥并除去二氧化碳)分別導入高溫燃燒管(900~950℃)和低溫反應管(150℃)中,經高溫燃燒管的水樣在催化劑(鉑和二氧化鈷或三氧化二鉻)和載氣中氧的作用下,有機化合物轉化成為二氧化碳;經低溫反應管的水樣受酸化而使無機碳酸鹽分解成二氧化碳。其所生成的二氧化碳依次進人非色散紅外線檢測器。由于- -定波長的紅外線被二氧化碳選擇吸收,并在一定濃度范圍內,二氧化碳對紅外線吸收的強度與二氧化碳的濃度成正比,故可對水樣中的總碳(TC)和無機碳(IC)進行分別定量測定。

總碳與無機碳的差值,即為總有機碳。因此,TOC可由下式計算得到:TOC=TC-IC

在線和離線總有機碳(TOC)分析儀

該儀器可用于檢測制藥工業中純化水、注射用水和去離子水中有機碳的濃度;也可用于半導體行業中超純水TOC的檢測。

在制藥領域和生物化學領域清潔驗證過程中,可用于驗證清潔效果。

該儀器具有在線檢測功能,可以在線監測制藥工業的制水系統、半導體工業的超純水制備系統和晶片工藝過程、電廠去離子水制備過程等。

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