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　　粒形分析儀的測量技術

　　粒形分析儀擁有雙ＣＣＤ成像技術，包括基準鏡頭記錄大顆粒的粒度和形態信息，聚焦鏡頭記錄小顆粒的粒度和形態信息。兩個鏡頭既可單獨使用也可同時使用，因而能在一個很寬的粒度范圍內得到具有重現性的數據結果。一次進樣，同時測得粒度大小、粒度分布、球形度、對稱性、凹凸度等顆粒綜合信息。

　　粒形分析儀*了樣品折射率測量技術，對未知折射率的新材料也能得到的粒度測試結果。粒形分析儀采進口半導體泵浦激光器，壽命大于25000小時；采用進口的高精度透鏡組，了微弱的、各角度的散射光信號無一漏網；采用進口的高速CCD與高像遠心鏡頭，成像清晰無拖尾現象；采用高速顆粒識別技術，每分鐘可分析幾萬個顆粒數目。總之，該儀器是集激光散射、顯微成像于一體的新一代粒度測試儀器。

　　粒形分析儀采用激光光阻技術,不需要任何假設或樣品特性,可直接測定微粒的粒度分布(0.1-3600微米)。這種*的分析技術,被稱為“Laser Obscuration Time”激光光阻技術(LOT)。LOT與其他激光衍射技術相比的主要優勢是其較高的分辨率,通過對小范圍的檢測從而得到更好的測量精度。使用LOT技術主要好處是,即使有任何其他顆粒或介質的物理或化學性質影響,仍得到可靠地測量結果。配套的軟件,通過分析計算復雜的多脈沖信號光阻時間,可在幾秒鐘內得到清楚和精確的顆粒分布測量結果。粒形分析儀實時可視化采樣,有效地讓用戶可以輕松地監測樣品準備過程或受污染情況,同時也為了避免樣品無關的或不必要的組分影響分析結果。