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利用NexION 2000 ICP-MS 對半導體級鹽酸中的雜質進行分析

閱讀:694      發布時間:2020-03-24
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    在半導體設備的生產過程中,許多流程中都要用到各種酸類試劑。其中重要的是鹽酸(HCl),其主要用途是與過氧化氫和水配制成混合物用來清潔硅晶片的表面。由于半導體設備尺寸不斷縮小,其生產中使用的試劑純度變得越來越重要,這是因為即使是少量雜質也會導致設備的失效。常規的測定條件下,氬、氧、氫離子會與酸基體相結合,對待測元素產生多原子離子干擾。

    珀金埃爾默公司的NexION 2000 電感耦合等離子體質譜儀(ICP-MS)可提供多種*消除多原子離子干擾的方式。在鹽酸分析中,除去氯的干擾是至關重要的,目前有效的反應氣是高純氨氣和高純氧氣。

    本文介紹了NexION 2000 ICP-MS 對半導體級鹽酸進行雜質分析的應用案例,*可以滿足或超越SEMI 標準。

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珀金埃爾默企業管理(上海)有限公司

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