Holmarc 的旋涂機（型號：HO-TH-05）是一種專用的臺式系統，用于在研究實驗室中對小型基底進行旋涂，旋涂過程參數控制良好。高速和持續時間范圍允許用戶獲得所需的薄膜厚度或薄度。旋涂頭執行器采用精密的直流伺服電機，維護量少，速度和加速度控制精確。由無油真空泵驅動的真空吸盤將基底固定在旋轉頭上。

該設備的用戶友好型前面板配有鍵盤和液晶顯示屏，可對旋轉過程進行編程。旋轉持續時間、旋轉速度、加速度等參數均可通過前面板進行編程。由于程序存儲器是非易失性的，因此在斷電的情況下記錄的參數也不會丟失。該機型配備了 9 個可編輯的預設程序存儲器，每個程序有 9 個步驟。

功能

卡盤直徑：14 毫米、22 毫米、36 毫米（O 形圈外徑）

工作腔上的透明安全蓋

非易失性程序存儲器

用戶友好型設計

背板電源開關

用于惰性氣體吹掃的入口和出口，6 毫米管道

                                                                                                       規格

用戶界面：24 x 4 行字母數字 LCD 和 16 按鈕鍵盤

    執行器：無刷直流伺服電機

    程序存儲器：9 個程序，每個程序有 9 個步驟

    速度曲線：速度、持續時間和加速度

    旋轉速度：60 - 9999 RPM

    速度分辨率：1 RPM

    速度精度：+/- 1

    加速/減速：10 - 2000 rpm/s（可通過輸入加速度間接設置斜坡和停留時間）

    持續時間：每步 1 - 99 秒/分/小時

    樣品卡盤：3 個（25 毫米、32 毫米和 45 毫米）

    最大樣品直徑：100 毫米

    最小樣品直徑：13 毫米

    樣品碗材料：聚丙烯

    碗尺寸：8 英寸

    帶樣品分配口的透明蓋

    排水軟管

    安全聯鎖裝置，防止碗打開時旋轉

    樣品架 ：    帶硅橡膠 O 型環的 PTFE 盤

    樣品安裝：真空固定

    真空連接器：8 毫米直徑卡入式軟管連接器

    N2 吹掃接頭

    真空泵開/關和釋放開關

    尺寸（毫米） ：    400（長）x 275（寬）x 350（高）

    交流電輸入：230 伏

    最大功耗：260 瓦（帶真空泵）

應用范圍

    旋涂技術在有機電子、納米技術、半導體工業和其他工業領域無處不在。

    旋轉涂層廣泛應用于使用溶膠-凝膠前驅體在玻璃或單晶基底上微細制造功能氧化物層，可用于制造納米級厚度的均勻薄膜。在光刻技術中，它被廣泛用于沉積厚度約為 1 微米的光刻膠層。

可選配件

數字移液器，用于向基底分配液體

支架用于固定手動移液器

真空適配器，用于固定直徑從 30 毫米到 100 毫米不等的培養皿

機械夾或鎖，用于在不抽真空的情況下固定樣品

旋轉鍍膜是在平面基底上沉積均勻薄膜的技術之一。它廣泛應用于各種行業和技術領域。旋涂技術的優勢在于能夠快速、輕松地生產出厚度從幾納米到幾微米不等的非常均勻的薄膜。

在這項技術中，在低速旋轉或不旋轉的基底中心涂上少量涂層材料。然后基底高速旋轉，通過離心力使涂層材料擴散。在流體從基底邊緣脫落的同時繼續旋轉，直到達到所需的涂膜厚度。涂抹的溶劑通常具有揮發性，會同時蒸發。因此，旋轉的角速度越高，薄膜就越薄。薄膜的厚度還取決于溶液和溶劑的粘度和濃度。