摩方精密高精度光固化3d打印機microArch® S230A，依托于創(chuàng)新的PμSL技術(shù)，實現(xiàn)高達2微米光學(xué)精度，支持光敏樹脂、陶瓷漿料打印。這項技術(shù)基于數(shù)字光處理（DLP）系統(tǒng)，通過將紫外光投影至光敏材料表面，精確固化每一層微結(jié)構(gòu)。相較于傳統(tǒng)點掃描方式，PμSL采用整層曝光，使得打印速度更快、結(jié)構(gòu)一致性更高、邊緣清晰度更優(yōu)。

一、microArch® S230A設(shè)備規(guī)格

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：光敏樹脂、陶瓷漿料

光學(xué)精度：2μm

打印層厚：5~20μm

打印樣品尺寸：

模式1：單投影模式：3.84mm(L)×2.16mm(W)×50mm(H)

模式2：拼接模式：50mm(L)×50mm(W)×50mm(H)

模式3：重復(fù)陣列模式：50mm(L)×50mm(W)×50mm(H)

打印文件格式：STL

系統(tǒng)外形尺寸：1720mm(L)×750mm(W)×1820mm(H)

重量：660kg

電氣要求：220~240V AC,50/60HZ,2KW

設(shè)備特點優(yōu)勢

超高精度：光學(xué)精度高達2μm；

配置激光測距，便于打印平臺和離型膜的調(diào)平；

配置滾刀，用于打印材料快速流平，且支持打印高黏度樹脂；

配備高精密運動控制系統(tǒng)，XYZ運動軸的重復(fù)定位精度±0.2μm；

工業(yè)級的設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)，易操作，易維護；

配置氣浮平臺，提高打印質(zhì)量；

優(yōu)良的光源穩(wěn)定性；

配套量身定制的打印軟件、切片軟件。

二、microArch® S230A應(yīng)用領(lǐng)域

1、微流控芯片制造

在生命科學(xué)和POCT（即時診斷）等領(lǐng)域，微流控芯片的通道寬度往往在幾十微米甚至更小。摩方2μm微納3D打印設(shè)備能夠應(yīng)用于微流控平臺、器官芯片、單細(xì)胞分析平臺的構(gòu)建，其高精度打印能力有效保障了通道尺寸一致性與液體傳輸效率，助力生物醫(yī)學(xué)微系統(tǒng)精密集成。

2、精密光學(xué)結(jié)構(gòu)與微透鏡陣列

傳統(tǒng)微透鏡或自由曲面元件多依賴超精密CNC或注塑模具加工，成本高、開發(fā)周期長。借助2微米精度的3D打印技術(shù)，用戶可以快速設(shè)計并制造高曲率自由曲面光學(xué)結(jié)構(gòu)，用于增強VR/AR成像、太赫茲波導(dǎo)、光波導(dǎo)通信等領(lǐng)域的光學(xué)性能。

3、微型器件與傳感器

在傳感器、微型執(zhí)行器等領(lǐng)域，摩方精密支持微米級連接通道以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的原位制造，為小型化、集成化電子元器件的研發(fā)提供了解決路徑。同時，陶瓷、光敏樹脂等材料兼容性，也使得這類器件具備更強的環(huán)境適應(yīng)能力。