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科睿設備有限公司

8
  • 2024

    01-15

    皮可安培計的準確性與精度解析及選購建議

    皮可安培計(PicoampereMeter)是一種用于測量極小電流的儀器,廣泛應用于科學研究、半導體制造、生物醫學等領域。在選購皮可安培計時,準確性和精度是重要考慮因素。一、準確性與精度的概念解析:準確性是指測量結果與真實值之間的接近程度,通常以誤差來表示。而精度則是指多次測量結果之間的一致性和穩定性。二、影響皮可安培計準確性與精度的因素:1.線性度:皮可安培計的線性度指的是在整個測量范圍內,輸出信號與輸入信號之間的直線關系程度。線性度高的儀器能夠更準確地測量電流。2.分辨率:分辨率是指皮可安培
  • 2023

    12-22

    提高開爾文探針掃描系統穩定性和精度的技巧

    開爾文探針掃描系統是一種常用的測量儀器,用于測試材料的電學和熱學性質。然而,由于各種因素的存在,該系統可能會出現穩定性和精度方面的問題。本文將介紹一些提高開爾文探針掃描系統穩定性和精度的技巧。一、確保系統的校準是正確和準確的校準是保證系統準確性的關鍵步驟。在使用系統之前,應使用已知標準的樣品進行校準。通過與標準樣品的比較,可以確定系統的準確性,并進行必要的調整。在校準過程中,還應注意使用高質量的校準設備和方法,以確保校準結果的準確性。二、注意環境因素的影響溫度、濕度和氣壓等因素都可能對開爾文探針
  • 2023

    12-20

    使用粉塵氣溶膠發生器有哪些注意事項

    粉塵氣溶膠發生器是一種用于產生特定濃度和粒徑的氣溶膠顆粒的設備,廣泛應用于空氣質量監測、室內空氣凈化、生物安全等領域。為了確保設備的正常運行和使用安全,在使用過程中應注意以下幾點:1.設備安裝與調試:在安裝粉塵氣溶膠發生器時,應選擇平整、穩固的臺面,避免因振動等原因導致設備移位或損壞。同時,應確保設備的進氣口和出氣口無堵塞,以保證氣流暢通。在調試過程中,應根據實際需求調整設備的工作參數,如氣溶膠濃度、粒徑等,以達到最佳效果。2.操作規程:在使用粉塵氣溶膠發生器前,應熟悉設備的操作規程,了解各部件
  • 2023

    12-13

    有效延長氣溶膠粒徑譜儀粉塵發生器使用壽命的方法

    氣溶膠粒徑譜儀被廣泛應用于環境監測、室內空氣質量評估以及健康研究等領域。而氣溶膠粒徑譜儀的核心組件之一是粉塵發生器,它能夠產生不同大小范圍的顆粒供后續分析使用。然而,由于工作條件、操作不當或使用時間過長等原因,氣溶膠粒徑譜儀粉塵發生器往往會出現性能下降甚至損壞的問題。1、定期清潔定期清潔是保持氣溶膠粒徑譜儀粉塵發生器正常運行的重要步驟。在每次使用后或按設備制造商建議頻率進行清潔操作。首先斷開電源,并確保所有部件冷卻到適當溫度。然后拆下與主體相連的管路和連接件,并用干凈軟布擦拭外表面和內部霧化裝置
  • 2023

    11-22

    怎么才算是正確保養納米顆粒采樣器

    納米顆粒采樣器是一種用于采集空氣中納米顆粒的設備,廣泛應用于環境監測、實驗室研究等領域。為了保證采樣器的正常運行和延長使用壽命,需要對其進行定期的保養和維護。以下是納米顆粒采樣器的保養細節:1.清潔采樣器外部:使用軟布或棉簽輕輕擦拭采樣器外部,去除灰塵和污漬。避免使用化學溶劑,以免損壞設備表面。2.更換濾膜:根據采樣器使用說明書的建議,定期更換濾膜。濾膜是采樣器中最重要的部件,負責捕捉空氣中的納米顆粒。長時間使用后,濾膜上會積累大量的顆粒物,影響采樣效果。因此,定期更換濾膜是保證采樣準確性的關鍵
  • 2023

    10-24

    氣溶膠采樣器主體有哪些部分組成?

    氣溶膠采樣器的主體部分通常由以下幾個主要部分組成:撞擊器:這是氣溶膠采樣器的重要組成部分,它由帶有微小噴孔的鋁合金圓盤及一級過濾器構成。圓盤間有密封膠圈,并用三個彈簧掛鉤固定在一起。當空氣進入采樣口后,氣流速度逐級增高,不同大小的粒子按空氣動力特征分別撞擊在相應的采集板上,每級收集到粒子大小范圍取決于該級的噴孔速度和上級的截擋狀況。前分離器:在含有10μm粒子的環境中采樣時,必須使用前分離器。前分離器是一個有Φ12.8mm的進氣管和三個出氣管的撞擊室,用于防止粒子的反彈和重復輸送。采集板:撞擊器
  • 2023

    10-19

    半自動光刻機的光源系統有什么作用?

    半自動光刻機的光源系統在光刻工藝過程中具有非常重要的作用。以下是光源系統的主要作用:提供光線:半自動光刻機需要使用特定波長和能量的光源照射到半導體表面,形成電路圖形。因此,光源系統第一個重要的作用就是提供光線,為光刻機提供能量來源,使光刻機能夠正常工作。控制光線波長及強度:不同的半導體制程工藝需要不同波長的光線,而光源系統可以控制輸出的光線波長和強度。通過調整光源系統的參數,可以實現不同工藝需求的光線波長和強度的輸出,從而確保光刻機能夠適應不同的制程要求。提高曝光效率:高強度、穩定的光源可以提高
  • 2023

    09-08

    開爾文探針掃描系統的應用和特點

    開爾文探針系統是一款可以被大多數客戶所接收的掃描開爾文探針系統,它是在ASKP基礎之上包括了彩色相機/TFT顯示器、2毫米和50微米探針、外部數字示波鏡等配置。應用范圍:吸附,電池系統,生物學和生物技術,催化作用,電荷分析,涂層,腐蝕,沉積,偶極層形成,顯示技術,教育,光/熱散發,費米級掃描,燃料電池,離子化,MEMs,金屬,微電子,納米技術,Oleds,相轉變,感光染色,光伏譜學,高分子半導體,焦熱電,半導體,傳感器,皮膚,太陽能電池,表面污染,表面化學,表面光伏,表面勢,表面物理,薄膜,真空
  • 2023

    08-11

    納米顆粒探測器的原理介紹

    一、納米顆粒儀用物理的方法測試固體顆粒的大小和分布的一種儀器,采用數字相關器的納米激光粒度儀,其采用高速數字相關器和高性能光電倍增管作為核心器件,具有操作簡便、測試快捷、高分辨、高重復及測試準確等特點,是納米顆粒粒度測試的選產品。二、原理分析:(1)采用動態光散射原理和光子相關光譜技術,根據顆粒在液體中布朗運動的速度測定顆粒大小。具有原理先進、精度高的特點,從而保證了測試結果的真實性和有效性。(2)高靈敏度與信噪比:本儀器的探測器采用專業級高性能光電倍增管(PMT),對光子信號具有高的靈敏度和信
  • 2023

    07-11

    表面光電壓譜系統是如何測量材料的光電性質?

    表面光電壓譜系統是一種用于測量材料光電性質的儀器。它通過測量材料在外界光照下的電壓響應,提供了關于材料光電行為的重要信息。本文將介紹表面光電壓譜系統的工作原理以及其在測量材料光電性質方面的應用。該系統的工作原理基于光電效應,即光照能夠引起材料中電子的激發和運動。當光照射到材料表面時,光子的能量可以被材料中的電子吸收,使其躍遷到更高能級。這些激發的電子可以導致電荷分離和電流的產生,從而形成電壓信號。系統由光源、光學系統、樣品臺、電子學設備和數據采集系統等組成。光源通常使用可調諧激光器或白光源,能夠
  • 2023

    07-07

    勻膠機作用過程

    一、勻膠機是在高速旋轉的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備,膜的厚度取決于勻膠機的轉速和溶膠的黏度。二、勻膠機有一個或多個滴膠系統,可涂不同品種的光刻膠。滴膠的方式有晶片靜止或旋轉滴膠。隨著晶片尺寸的增大,出現了多點滴膠或膠口移動式滴膠。膠膜厚度一般在500—1000nm,同一晶片和片與片間的誤差小于±5nm。滴膠泵有波紋管式和薄膜式兩種,并有流量計進行恒量控制。對涂過膠的晶片有上下刮邊功能,去掉晶片正反面多余的光刻膠。主軸轉速的穩定性和重復性是決定膠膜厚
  • 2023

    07-03

    掃描電遷移率粒徑譜儀在顆粒物測量中的應用

    顆粒物污染已成為全球環境和健康問題的重要挑戰之一。為了有效監測和評估大氣中的顆粒物濃度和大小分布,科學家們開發了各種測量工具和技術。其中,掃描電遷移率粒徑譜儀(SMPS)作為一種先進的儀器,廣泛應用于顆粒物測量領域。本文將討論SMPS在顆粒物測量中的應用。1、顆粒物粒徑分布測量:掃描電遷移率粒徑譜儀能夠快速、準確地測量顆粒物的粒徑分布。通過使用一個可調節的電子束,SMPS能夠選擇性地捕獲特定粒徑范圍的顆粒物,并通過測量其在電場作用下的遷移速率來確定粒徑。這使得SMPS能夠提供高分辨率的粒徑分布數
  • 2023

    06-08

    納米顆粒探測器對環境監測有何貢獻

    納米顆粒探測器是一種新興的環境監測技術,能夠檢測和分析空氣、水和土壤中的微小顆粒。這些顆粒可能包含有毒或危險物質,因此對于環境保護具有重要意義。本文將介紹納米探測器的原理、應用以及對環境監測的貢獻。首先,讓我們來了解一下納米顆粒探測器的工作原理。它們通常由一個激光器和一個探測器組成。激光器會發射出一束光線,并照射在空氣或液體中。當光線與顆粒相遇時,會散射回來并被探測器捕捉到。通過計算捕捉到的反射光強度和方向,可以確定顆粒的大小、形狀和化學成分。這種方法非常靈敏,可以檢測到直徑僅為幾納米的顆粒。該
  • 2023

    06-08

    原子層沉積的發展介紹

    一、單原子層逐次沉積,沉積層極均勻的厚度和優異的一致性等就體現出來,而沉積速度慢的問題就不重要了。以下主要討論原子層沉積原理和化學,原子層沉積與其他相關技術的比較,原子層沉積設備,原子層沉積的應用和原子層沉積技術的發展。二、通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應器并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種方法(技術)。當前驅體達到沉積基體表面,它們會在其表面化學吸附并發生表面反應。在前驅體脈沖之間需要用惰性氣體對原子層沉積反應器進行清洗。由此可知沉積反應前驅體物質能否在被沉積材料表面化學吸附是實
  • 2023

    06-02

    鹽霧氣溶膠發生器的粒徑范圍是多少

    鹽霧氣溶膠發生器是一種常見的實驗設備,被廣泛應用于材料表面腐蝕、防護和涂層等性能測試。其基本原理是將鹽水噴霧加熱,產生水蒸氣并與空氣混合,形成細小顆粒的鹽霧氣溶膠。這些氣溶膠粒子具有不同的粒徑范圍,對于實驗結果和應用效果具有重要影響。那么,鹽霧氣溶膠發生器的粒徑范圍是多少呢?首先,我們需要了解氣溶膠粒徑的定義和分類。氣溶膠粒徑是指氣態物質中懸浮的微小顆粒的尺寸大小,通常用直徑表示。根據粒徑大小,氣溶膠可以分為超細粒子(10μm)等幾類。其中,氣溶膠的細粒子和粗粒子對于環境污染和健康危害具有重要作
  • 2023

    05-19

    電子束蒸發鍍膜儀的百科介紹

    一、1、樣品襯底在蒸鍍前可以通過離子槍進行清潔。2、樣品臺的三維轉動(平面內和垂直于平面)。3、可以注入氣體(特別是氧氣),并且可控制其壓強。4、蒸鍍厚度控制:頻率:10-4Hz;沉積速度分辨率:0.001nm/s;沉積厚度分辨率:0.01nm/s;沉積厚度可重復性:±1sxrate。二、1、真空度三、直徑4英寸基片,片內均勻性優于±3%,片間均勻性優于±2%,重復性優于±2%。四、真空蒸發鍍膜是一種由物理方法產生薄膜材料的技術。該設備被廣泛應用于在基底上制備均勻材料薄膜,從而對基底表面進行改性
  • 2023

    05-10

    如何優化脈沖激光外延制備系統的生長速率和晶體質量

    激光外延制備系統是一種重要的半導體材料生長技術,可以用于制備高質量、高純度的晶體材料。以下是優化脈沖激光外延制備系統的生長速率和晶體質量的幾個關鍵步驟:1、優化反應室氣氛:反應室氣氛對晶體生長速率和質量有很大影響。合適的氣氛可以提高晶體生長速率和質量,并且可以降低晶體缺陷密度。使用高純度氣體或氣體混合物可以減少雜質和不良反應。2、控制溫度梯度:溫度梯度是晶體生長過程中一個非常重要的因素。合適的溫度梯度可以促進晶體的生長并減少晶體的缺陷。在反應室中設置均勻的加熱器和冷卻器可以控制溫度梯度。3、控制
  • 2023

    05-04

    如何檢查真空快速退火爐的氣密性?

    真空快速退火爐廣泛應用于金屬、陶瓷、粉末冶金等領域。在設備運行過程中,為了保證其正常工作,必須對其氣密性進行檢查。本文將介紹如何對真空退火爐進行氣密性檢查。氣密性是指物體不透氣的能力。在真空退火爐中,氣密性指的是系統的真空狀態是否穩定,并且系統內外壓力差異是否小于一定范圍。因此,我們需要通過以下步驟來檢查氣密性。第一步:準備工作檢查前需要關閉真空退火爐,并確保其處于常溫下。同時,需要準備柿子水或其他檢漏劑。第二步:覆蓋檢漏劑用柿子水或其他檢漏劑涂抹到所有可能漏氣的部位,例如接頭、管道、閥門、觀察
  • 2023

    04-21

    光刻機的應用和原理概述

    一、掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。其中曝光機就是利用紫外線通過模版去除晶圓表面的保護膜的設備。一片晶圓可以制作數十個集成電路,根據模版曝光機分為兩種:模版和晶圓大小一樣,模版不動。模版和集成電路大小一樣,模版隨曝光機聚焦部分移動。二、利用模版去除晶圓表面的保護膜。將晶圓浸泡在腐化劑中,失去保護膜的部分被腐蝕掉后形成電路。用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質。其中模版隨曝光機移動的方式,模版相對曝光機
  • 2023

    04-10

    磁控濺射鍍膜機的應用優勢體現在哪里

    磁控濺射鍍膜機是一種廣泛應用于制備高質量薄膜的儀器,其具有許多應用優勢。以下將詳細闡述該鍍膜機的應用優勢。一,具有快速、可靠、高效的鍍膜效果。該機器采用高能量的離子束轟擊材料表面,使原料在真空環境中蒸發,產生高純度、均勻、致密、硬度高的薄膜,并具有優良的附著力和穩定性。這種薄膜不僅可以用于保護、裝飾和改性,還可以用于制造新材料和開發新技術。二,具有高度可控性。通過調節離子束能量、材料的化學成分、沉積速率等參數,可以制備出具有不同特性和功能的薄膜。例如,可以制備出透明導電膜、防反光膜、硬質涂層、磁
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