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2022
01-26

1100℃ 1500℃ 高溫真空探針臺溫度穩定±1℃
1100℃1500℃高溫真空探針臺溫度穩定±1℃樣品臺26x26mm同時可用于光學測試電學測試光學反射透窗距樣品間距9mm可擴展透視窗透孔2mm電學測試4探針外接3同軸bnc腔體不銹鋼材質180x90x37mm上下面水冷該腔體設計有進氣口和抽真空接口其真空度用機械泵可達＜5Pa分子泵可達＜-3Pa。真空信號連接處使用真空電極信號接頭，保證氣密性及抗干擾性能。使用時將需將待檢測的器件方在加熱臺面，探針頂尖處由3軸可移動探針手動調節移動至被測試器件的引腳處，外部信號線連接測試儀器來測試電學信號。
2022
01-26

真空探針臺優勢和適用于那些科研
KT-Z1604T探針臺主要應用于傳感器，半導體，光電，集成電路以及封裝的測試。廣泛應用于復雜、高速器件的精密電氣測量的研發，旨在確保質量及可靠性，并縮減研發時間和器件制造工藝的成本。該探針臺的承載臺為60x60不銹鋼臺面，臺面最高可升溫到最高350℃。真空腔體設計有進氣口和抽真空接口。探針臂為X/Y/Z三軸移動，三個方向均可在真空環境下精密移位調節，其中X方向調節范圍：0－30mm；y方向調節范圍：0－20mm；z方向調節范圍：0－20mm；用戶可根據需要自行調節。使用時將需檢測的器件固定在加
2022
01-26

等離子清洗機150W 13.56MHz適用半導體
鄭科探等離子清洗機150W13.56MHz主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。KT-S2DQX型等離子清洗機電源屬于150W13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設備，主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。該鄭科探KT-
2021
06-01

In Situ Assembly of Ordered Hierarchical CuO Microhemisphere Nanowire Arrays for High-Performance
InSituAssemblyofOrderedHierarchicalCuOMicrohemisphereNanowireArraysforHigh-PerformanceBifunctionalSensingApplicationsTiantianDai,ZanhongDeng,XiaodongFang,*HuadongLu,YongHe,JunqingChang,ShimaoWang,NengweiZhu,LiangLi,*ａndGangMeng*1.IntroductionDevicefa
2021
03-24

真空加熱腔體論文文獻
鄭州科探儀器設備有限公司是集開發、制造、經營為一體的材料設備創新型企業，如今公司的產品已經遍布國內大多數實驗室及科學院校，科探儀器已經成為老師同學和信任的品牌。公司以科技創新為主，服務社會為宗旨，積極設計開發新型材料制備設備，奉獻于教育和科學，經過長期的研發和不斷地技術積累，擁有熱工，制造，控制相關技術10余項，為化學，物理，材料，電子，高分子工程，新材料制備和研發領域的科學研究提供了精良設備。公司通過和院校老師同學強強聯合，形成了有效的信息，技術交流平臺，為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支
2020
12-02

等離子體處理對硅表面氧空位缺陷工程
ElectronicSupplementaryInformationForSurfaceoxygenvacancydefectengineeringofp-CuAlO2viaAr&H2plasmatreatmentforenhancingVOCssensingperformancesBinTong,abGangMeng,*acZanhongDeng,acMatiHorprathum,dAnnopKlamchueneandXiaodongFang*acaAnhuiProvincialKeyLabo
2020
07-24

掃描電鏡超導碳黑的特征觀察
為超導碳黑的進一步鑒別、研究及碳紙各屬間親緣關系的鑒定提供依據。[方法]應用掃描電鏡對超導碳黑進行磁控濺射(鄭州科探)-Ag/碳紙(30mA+2min磁控濺射(鄭州科探)-Ag/碳紙(30mA+2min)磁控濺射(鄭州科探)-Ag/碳紙(30mA+4min磁控濺射(鄭州科探)-Ag/碳紙(60mA+4min)進行觀察。[結果]在不同時間的線性規律性挺好根據這個表證結果我還想用PT靶濺射在碳材料上在里面加一個磁場，這樣表面氧化物有機薄膜。
2020
07-13

石英管真空封管機步驟和原理
第1步，石英管縮頸抽真空后開始燒結縮頸，縮頸部位燒至凹陷即可Step1:SilicatubeneckingFrittheneckingafterthevacuumizinguntiltheneckingpartgetssunken第2步，裝樣裝石英柱將樣品裝入石英管，將石英柱下滑至縮頸處卡住Step2:SilicacolumnsampleloadingPutthesampleintosilicatubesａndslidethesilicacolumntotheneckingforlocking第
2020
05-11

氣體質量流量控制器的自我診斷技術
1.自我診斷技術自我診斷技術是在不停機或基本不拆機的情況下，通過各種檢測分析來判斷設備狀態是否正常，異?；蚬收系脑颉⒉课?、程度以及壽命的預測。自我診斷技術的主要作用是獲得設備的結果狀態信息，即根據設備在各種工況下，表現出來的精度超差，零點漂移，內漏等所有狀態信息的綜合分析來識別產品的狀態、異常類型和異常的嚴重程度，其本質是一個包含信號采集、信息提取、信息綜合、故障識別和信息利用的過程。自我診斷的目標是確保產品在功能、精度、效率和可靠性方面均能穩定運行2.自我診斷技術在氣體質量流量控制器中的應用
2020
04-28

掃描探針顯微鏡多功能組合探針系統研制
掃描探針顯微鏡是目前一種用途廣泛的表面分析儀器,它不僅廣泛應用于物理、化學、生物、醫學等基礎研究領域,還在微納制造和微電子等的應用研究領域中發揮著越來越重要的作用。然而,目前商業化的掃描探針顯微鏡主要為單一探針的工作模式,其功能相對單一,難以實現一些較為復雜的實驗及檢測功能。例如,在特殊環境下(如真空或輻射環境)的微觀磨損實驗中,若采用單一探針模式,在完成磨損實驗后,需要更換曲率半徑更小的針尖才能對表面磨損區域進行原位的高分辨形貌掃描與觀測。然而,在更換針尖的過程中,微觀磨損的實驗環境勢必會遭到
2020
04-28

PVD制備K型薄膜熱電偶的研究
熱電偶元件是在工業、科研中廣泛使用的一種溫度傳感器,具有測溫范圍廣,堅固耐用,無自發熱現象,使用方便等優點。薄膜熱電偶除了繼承上述普通熱電偶的優點外,還具有熱容小,響應速度快,幾乎不占用空間,對被測物體影響小的優點。本研究為制備K型薄膜熱電偶選擇了電子束蒸發鍍,磁控濺射,多弧離子鍍三種PVD方法。其中一部分樣片的NiCr/NiSi薄膜均由磁控濺射均由磁控濺射沉積,另一部分樣片的NiCr薄膜由磁控濺射沉積,而NiSi薄膜由電子束蒸發沉積。所制備得到的薄膜熱電偶樣片使用SEM(EDS),數顯溫度儀,
2020
04-28

快速退火爐系統設計與實現
快速退火爐是現代大規模集成電路生產工藝過程中的關鍵裝備主要用于離子注入后雜質的激活、淺結制作、生長高質量的氧化膜層和金屬硅化物合金形成等工藝。隨著集成電路工藝技術的飛速發展,開展快速退火爐系統的技術研究,對國內開發和研究具有自主知識產權的快速退火爐裝備,有著十分重要的理論意義和工程應用價值。本文針對現代半導體器件退火工藝對快速退火爐系統的技術要求,在綜合分析國內外各種快速退火爐系統技術基礎上,通過深入的分析研究,設計了系統總體技術方案。擬定采用燈光輻射型熱源裝置,上下兩排成正交的燈管組對位于其中
2020
04-28

探針臺精準控制關鍵技術研究
集成電路自動化裝備-探針臺是晶圓測試領域研究的熱點。由于晶圓片上晶粒很小,達到微米級,所以要求探針臺要保持很高的定位精度和運動精度才能保證探針與晶粒的準確對針和測試。因此,本文主要研究的問題是如何保證探針臺高精密控制,從而達到微米級定位要求。本文來自于國家02專項-面向12”晶圓片的全自動探針臺關鍵技術研究。首先,本文介紹了探針臺兩大部分-LOADER和PROBER的關鍵結構和運動流程；其次,本文重點對預對位、Z軸升降、XY平臺三個關鍵部件的精準控制進行研究,分析影響控制精度的多維度因素,并提出
2020
04-17

磁控濺射沉積系統設計
針對光學和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問題,設計了一種磁控濺射沉積系統,系統包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽極清洗裝置。主要結論有:(1)在磁控濺射靶裝置設計中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達10-6Pa;采用旋轉磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時避免了靶裝置在預先清洗時的污染;設計了靶裝置的驅動端,完成了電機、傳動裝置和軸承的選型。(2)設計等離子體源來改善沉積系統離化率不足的問題。選擇0.2mm鎢絲制成陰極,坩堝作為陽
2020
04-02

基于真空探針臺的紅外焦平面自動測試的關鍵技術研究
紅外熱成像技術由于自身各種優勢在軍事領域和民用領域有著廣闊的應用前景,因此備受各國重視,競相發展相關技術。由于國外對紅外熱成像技術的研究比較早,而我國在紅外熱成像技術領域起步較晚,所以差距很大。近年來我國在紅外熱成像技術的相關領域取得了一些進展,但很多方面還是遠遠落后于世界水平。因此,還需要加快紅外熱成像技術的研究。本課題以加快紅外熱成像技術的研究進度、減小研究周期、提升研究效率,降低研究及生產成本為目標,以紅外熱成像系統的核心部分非制冷紅外焦平面為基礎,研究紅外焦平面封裝前自動化測試的技術。提
2020
03-20

PVD真空鍍膜技術知識問答
Q1:什么是PVD?真空電鍍加工真空鍍膜技術A1:PVD是英文PhysicalVaporDeposition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。鄭州科探儀器設備有限公司新研發一款小型蒸鍍儀KT-Z1650DM是一款小型臺式加熱功率可控蒸發鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。通過定時調節預熱功率及蒸發功率，可對大部分金屬進行均勻蒸發沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺

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鄭州科探儀器設備有限公司

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