NE-5700/NE-7800-刻蝕設(shè)備
2025-05-24
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量產(chǎn)用刻蝕設(shè)備NE-5700/NE-7800
產(chǎn)品特性 / Product characteristics
• 除單腔之外,另可搭載有磁場ICP(ISM)或NLD等離子源、去膠腔體、CCP腔體等對應(yīng)多種刻蝕工藝。
•為實現(xiàn)制程再現(xiàn)性及安定性搭載了星型電及各種調(diào)溫技能。
•擁有簡便的維護(hù)構(gòu)造,縮短了downtime,提供清洗、維護(hù)及人員訓(xùn)練服務(wù)等綜合性的售后服務(wù)體制。
•門的半導(dǎo)體技術(shù)研究所會提供完備的工藝支持體制。
產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application
- •化合物(LED或LD、高頻器件)或Power device(IGBT配線加工、SiC加工)。•金屬配線或?qū)娱g絕緣膜(樹脂類)、門電加工工藝•強(qiáng)電介質(zhì)材料或貴金屬刻蝕。•磁性體材料加工。
產(chǎn)品參數(shù) / Product parameters
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
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