批量式電漿輔助氣相沉積設備(Batch Type Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)為一種使用化學氣相沉積技術，可為沉積反應提供能量。與傳統的CVD方法相比，可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質量。
此系統為專對派瑞林(Parylene)所設計，其腔體內部具有公自轉知特性，並批量式生產。而Parylene薄膜具有高均勻性、高填孔特性、高穿透性…等特性?？蓱渺豆怆娫庋b、電路板絕緣…等。
批量式電漿輔助氣相沉積設備參數：
| 應用領域 | 腔體 |
|
|
| 配置和優點 | 選件 |
|
免責聲明：以上所展示的信息由企業自行提供，內容的真實性、準確性和合法性由發布企業負責，化工儀器網對此不承擔任何保證責任。
北京瑞科中儀科技有限公司
相關供應
采購中心