國產小型桌面式快速退火爐 4寸非真空

產品優勢

1. 真實反應實時溫度，不會使用低靈敏度單元隱藏溫度過沖，溫度不穩不是樣品實際溫度等問題。自研非傳統PID溫控，即使在最大升溫速率下仍可保證不過沖。

2. 優秀的熱交換系統，比同類產品功耗低70%，因此也善于長時間加熱，和國外同類產品比對水冷要求低，耗電量低，高溫持續加熱時間長。不會像某些產品那樣因高溫長時間加熱造成腔體產生異味甚至損壞。

3. 使用多溫區控溫，可通過APP界面調節溫度均勻性。優秀的光源冷卻系統確保光源壽命達到國際水平。科學的波長分布保證半導體材料可有效吸收。不會像某些產品遇到脆弱樣品就發生變形甚至裂片。

4. 異常保護，安全設計，對氫氣，氨氣等特殊氣氛的使用經驗豐富。30年間*用戶安全使用無事故。對軍線，美國芯片法案禁運企業使用設備保障有力。20年前設備仍可正常維護。供應鏈安全，設備配件供應，貨期有保障。

國產小型桌面式快速退火爐 4寸非真空

規格：

快速退火爐是一種用于材料科學和半導體工業的高效熱處理設備，通過快速升降溫（通常在幾秒到幾分鐘內達到目標溫度）實現對材料的精確退火處理。其核心優勢在于快速熱響應和精確溫度控制，廣泛應用于半導體晶圓、薄膜材料、金屬合金等的工藝優化。

應用領域

1.半導體制造：

離子注入后激活摻雜原子（如硅晶圓中磷、硼的激活）。

修復晶格缺陷，提升電子遷移率。

2.薄膜材料：

金屬薄膜（如銅、鋁）的致密化和導電性優化。

透明導電氧化物（如ITO薄膜）的結晶度調控。

3.新能源材料：

太陽能電池（如PERC、HJT電池）的鈍化層退火。

鋰離子電池電極材料的晶相調整。

4.科研領域：

納米材料（量子點、石墨烯）的快速合成與改性。