北京格微儀器有限公司長期致力于打造以用戶體驗為中心的材料表征領域、材料表面改性等儀器設備研發制造，公司總部位于北京海淀中關村，有多名多年從事真空技術、電子光學、離子光學、表面物理、材料制備等技術人員聯合發起，團隊全部為碩士以上學歷或高級職稱，具備專業的表面分析、結構分析、原位分析等應用經驗，在科研、產業等領域，沉浸多年，具備獨立設計、項目承擔、生產制造等綜合能力。當前聚焦于具有自主知識產權并具備國際競爭力的電子顯微鏡樣品制備設備，并在高校院所和產業單位得到青睞。
手套箱鍍電極專用磁控濺射儀(手套箱鍍電極)GVC-2000自動化程序控制，一鍵式操作，讓鍍膜更加高效。該設備采用觸摸控制，外置泵組設計，采用平面磁控濺射靶設計，從而使試樣在熱效應最小的條件下得到濺射效果。
磁控濺射儀(手套箱鍍電極)GVC-2000為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇,以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。磁控射的原理是,在電場內在疊加一個磁場,這樣電子在疊加場內做旋運動,行程很長,每個電子電離的氣體分子比直流多很多很多,所以可以在低電壓下,有較好的高空度。射產生同樣的效果。但是因為磁控直空度相對高,所以膜的粒小,膜層著力好,吧材的利用率也高。在直流射過程中,樣品的溫升主要來自于負商子在電場作用下對樣品的發擊,在磁控射中,負離子都被場束縛了,所以基本沒有對樣品的轟擊,所以溫升基本沒有,很適合溫度敏感性的樣品制備。
GVC-2000手套箱鍍電極專用磁控濺射儀可用于：
1、純氬、純氮環境，使樣品免受氧氣、水蒸氣或其他污染。
2、助力新型電池研究。
3、提供全套解決方案及交鑰匙服務。
技術參數：
1、濺射靶頭采用平面磁控靶設計；
2、系統采用單片機等微處理器控制，全數字顯示；
3、彩色液晶屏顯示，屏幕不小于5英寸；
4、最大濺射電流不小于45mA，最小濺射電流不大于5mA，步進量為1mA；
5、濺射真空度可任意設定，且最小調節量0.1Pa；
6、可存儲不少于5種靶材的工作參數；
7、最長濺射時間不小于600秒；
8、具備電流保護和真空保護功能，在電流過大、真空度較差時保證設備安全；
9、極限真空優于1Pa；
10、可實時顯示靶材使用時間和設備工作時間；
11、可用實時曲線顯示濺射電流和真空度。
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