薄膜生長速率測試儀，采用無損的激光技術實時原位檢測薄膜沉積速率、薄膜厚度以及光學常量（n&k），可廣泛的應用于金屬有機化學氣象沉積MOCVD、分子束外延MBE、濺射系統Sputtering和蒸發系統等薄膜沉積過程的實時原位監控。
薄膜生長速率測試儀
主要特點：
*實時薄膜沉積速率、薄膜厚度和光學常數（n&k）分析，同時標準偏差統計分析；
*自動程序化校準；
*實時反饋系統；
*程序控制，可實時多層薄膜沉積監控和控制；
*多Wafer監控功能；
*Wafer基底旋轉監控和控制功能；
*所有參量原位實時檢測；
*操作裝配簡單便捷；
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