MLA150
先進無掩膜激光直寫機 / 光刻機
The Advanced Maskless Aligner
適合研發團隊與中小批量生產的客戶
MLA150專屬為研發型以及中小批量生產的客戶而設計的激光直寫解決方案。
區別于過去傳統的工藝技術而開發的無掩膜激光直寫技術，將設計圖形直接曝光到涂覆有光刻膠的襯底材料上；
曝光后，如果需要修改圖形結構，可以直接通過CAD軟件修改原始圖形，然后重新曝光即可，無需花費重新制版的時間。
主要產業應用有：生命科學、微流體、MEMS、微光學、傳感器、材料研究等有微納米結構需求的科研領域。
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上海麥科威半導體技術有限公司
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