艾博納微納米勻膠機（ABN-COA-001）是一款面向科研及中試應(yīng)用場景設(shè)計的高精度膠液涂覆設(shè)備，適用于微納米制造、光刻工藝、薄膜制備等領(lǐng)域的膠液旋涂工藝。該設(shè)備結(jié)合高穩(wěn)定性馬達控制系統(tǒng)與靈活的參數(shù)設(shè)定功能，可根據(jù)不同基片尺寸與膠液粘度，精準(zhǔn)調(diào)整旋涂過程，確保獲得均勻一致的涂覆效果。

本設(shè)備支持500 - 8000 RPM的寬廣轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)范圍，轉(zhuǎn)速精度達±1 RPM，能夠精細適配不同類型膠液的旋涂要求。低粘度膠液推薦高速旋涂（如3000 - 6000 RPM），而高粘度膠液適合低速旋涂（如500 - 2000 RPM），實現(xiàn)最佳涂覆均勻性與穩(wěn)定性。涂膠時間可設(shè)置為1 - 999秒，滿足從預(yù)旋涂到主旋涂的全工藝時長需求，確保厚度控制更為靈活。

ABN-COA-001配備可調(diào)加速度功能（最大至3000 RPM/s），在不同旋轉(zhuǎn)階段精準(zhǔn)控制轉(zhuǎn)速變化過程，同時支持最大400mm × 400mm（標(biāo)準(zhǔn)支持4英寸）基板的適配。其真空吸附系統(tǒng)可在旋涂過程中牢固固定基片，防止滑動或偏移，提高制程可靠性。

設(shè)備功率僅約100W，支持220V±10%，50/60 Hz輸入，適用于實驗室常規(guī)電源環(huán)境。整體結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積僅300mm × 300mm，整機高度約200mm，重量約10kg，便于安裝于通風(fēng)櫥、無塵箱或標(biāo)準(zhǔn)實驗臺。

艾博納微納米勻膠機（ABN-COA-001）以其出色的參數(shù)控制能力與優(yōu)良的適配性，成為科研工作者進行高質(zhì)量膠液旋涂的理想選擇，廣泛適用于半導(dǎo)體材料制備、光刻膠旋涂、光電子器件前道工藝等精密實驗場景。