高感光度標準G線正型光刻膠

AZ1500系列G線光刻膠

為廣泛應用于半導體制造領域而優化的高感光度G線正型光刻膠

特征：

1) 高感光度,高產出率

2) 高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進

3) 廣泛應用于全球半導體行業

AZ1500系列G線光刻膠參考工藝條件：

前烘 ：100℃ 60秒 (DHP)

曝光 ：G線步進式曝光機/接觸式曝光機

顯影 ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒 Puddle

清洗 ：去離子水30秒

后烘 ：120℃ 120秒 (DHP)

剝離 ：AZ剝離液及/或氧等離子體灰化

產品型號：AZ1500

Viscosity:4.4mPa 20mPa 38mPa 90mPa

AZ1500系列G線光刻膠 旋涂曲線：

AZ1500系列i線光刻膠 圖案輪廓：