NX-B100多功能整片基板納米壓印系統（熱壓印）

zui大75毫米直徑壓印面積  熱壓印

加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘

NX-B200多功能整片基板納米壓印系統（熱壓印和紫外壓印）

zui大75毫米直徑壓印面積  熱壓印和紫外壓印

加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘

58mW/cm2紫外LED光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制

NX-1000多功能整片基板納米壓印系統（熱壓印）

標配4英寸,6或8英寸壓印面積可選  熱壓印 加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘

NX-2000多功能整片基板納米壓印系統（熱壓印和紫外壓印）

標配4英寸,6或8英寸壓印面積可選  熱壓印和紫外壓印

加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘

200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制

NX-2500

多功能整片基板帶對準功能多層次的納米壓印系統

標配4英寸,6或8英寸壓印面積可選

熱壓印和紫外壓印

加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘

200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制

帶對準功能（亞1微米對準精度） 多層次的納米壓印

對準模塊 <1μm 3σ對準準確率 X, Y, Z, Theta平臺

分場光學和CCD相機

NX-2600

多功能整片基板帶對準功能多層次的納米壓印和高分辨率光刻系統

可選背面對準

標配4英寸,6或8英寸壓印面積可選

熱壓印和紫外壓印

加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘

200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制

帶對準功能（亞1微米對準精度） 多層次的納米壓印

對準模塊 <1μm 3σ對準準確率 X, Y, Z, Theta平臺

分場光學和CCD相機

標配5”模板,標配4”直徑基板 ? 其他尺寸可以提供500瓦紫外水銀燈光源

Lumina200多功能高精度光刻機

4寸基板，5寸掩膜

Ultra-100多功能集成清潔和單分子層氣態鍍膜系統

Pieces to Full Wafers (2”, 3”, 4”, 6” or 8” OD, etc)  Up to 8”×8”