200ml聚四氟乙烯水熱合成反應釜內襯耐硝酸、硫酸、王水等強酸強堿。四氟乙烯內襯zui高耐溫220度；PPL（對位聚苯）內襯zui高耐溫280度。

　　可用于原子吸收光譜及等離子發射等分析中的溶樣預處理；也可用于小劑量的合成反應;還可利用罐體內強酸或強堿且高溫高壓密閉的環境來達到快速消解難溶物質的目的。在氣相、液相、等離子光譜質譜、原子吸收和原子熒光等化學分析方法中做樣品前處理。

200ml聚四氟乙烯水熱合成反應釜水熱合成反應釜置于加熱器內，按照規定的升溫速率升溫至所需反應溫度（小于規定的安全使用溫度）。待反應結束將其降溫時，也要嚴格按照規定的降溫速率操作，以利安全和反應釜的使用壽命。當確認腹內溫度低于反應物系種溶劑沸點后方能打開釜蓋進行后續操作。

操作規程  將反應物系指與釜體內，并保證加料系數小于0.8。當反應物系有腐蝕性時要將其置于四氟襯套內，方可保證釜體不受腐蝕。 將HZ水熱合成反應釜置于加熱器內，按照規定的升溫速率升溫至所需反應溫度（小于規定的安全使用溫度）。待反應結束將其降溫時，也要嚴格按照規定的降溫速率操作，以利安全和反應釜的使用壽命。當確認腹內溫度低于反應物系種溶劑沸點后方能打開釜蓋進行后續操作。每次水熱合成反應釜使用后要及時將其清洗干凈，以免銹蝕。釜體、釜蓋線密封處要格外注意清洗干凈，并嚴防將其碰傷損壞。