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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>其它實驗室常用設備>鍍膜機>AGS TT-RIE Bench-Top Plasma Tool (薄膜沉積)

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AGS TT-RIE Bench-Top Plasma Tool (薄膜沉積)

具體成交價以合同協議為準

聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


First-Nano System GmbH 

  • 2003年          創立于德國德累斯頓工業大學(Dresden University of Technology)

  • 2008年          香港成立德國韋氏納米系統(香港)有限公司   

  • 2015年          上海成立德國韋氏納米系統(香港)有限公司中國代表處,負責中國區業務

  • 2018年          深圳正式成立韋氏納米系統(深圳)有限公司,更好的為中國南方區市場

     

德國韋氏納米系統成立以來,一直為客戶想的更多,Thinking more ?。?!

 

產品范圍:

薄膜沉積/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

等離子清洗機,均膠機,薄膜沉積,刻蝕

AGS Plasma Systems, Inc.

Now Celebrating Our 25th year!

 

    美國AGS公司成立于1991年,在等離子系統領域已有25年的歷程,是一家歷史悠久的等離子系統供應商,提供的真空等離子系統主要應用于圖案轉換中薄膜沉積,刻蝕,如微電子,MEMS,光伏,光電,納米科技等行業領域。

 

 

2012年Semicon West ,AGS公司推出一個新型的,桌面式 TT-150—RIE/CVD 系統,非常經濟實用,對世界各地大學,研究所來說這樣如此特色的RIE和CVD應用是非常*的。
  • 模塊化的TT-150適合半導體MEMS,TFT,PV的2寸---6寸應用。

  • AGS TT 等離子系統在一個平臺上提供了所有的功能特征

  • RIE,PECVD,和等離子刻蝕PE都能在一個易操作,低維護,實用簡單的平臺上實現,同時可以根據您的工藝要求升級您的需求

  • 當您需要更換工藝技術是,腔體的部件,材料,進氣裝置提供更多的工藝擴展

  • AGS依靠公司豐富的經驗為新工藝開發提供低成本的*的技術資源便于提前研發*的領域技術

  • 桌面式,占地面積小,節省實驗室空間

  • 工藝控制簡單,易于使用者操作

  • 兼容等離子刻蝕PE和PECVD,成本低?

      

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