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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備>Trion Orion HDCVD Trion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統

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Trion Orion HDCVD Trion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統

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FIRSTNANO成立于2012年,一家由三位材料學博士共同創辦的德國公司。基于 Science is international”的想法,“全球協同實驗室”成為三位博士追逐的夢想。

公司愿景是從科學家到科學家,科學開創美好未來。

FIRSTNANO深耕于半導體技術、材料科學、生命科學等科研領域,始終秉承“前沿、專業、科學”的宗旨,將前沿技術引進到協同實驗室。我們的產品覆蓋了微納加工制程;材料科學的檢測、分析;生命科學成像,腦科學與行為認知等相關領域。作為全球科技前沿的儀器供應商,FIRSTNANO具有全球技術視野、優質供應體系、以及嚴格的質量管控系統,能為客戶提供前沿的技術解決方案。

公司服務的客戶領域廣泛,其中包括消費電子、航空、航天、醫藥技術、半導體行業、光電子行業、高校和研究機構。

在成長的過程中,我們腳踏實地、奮勇向前。自2015年香港(中華區)公司成立以來,我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設立了分支機構。

我們真誠邀請業內英才加入FIRSTNANO TEAM,一起為夢想揚帆起航!

 

 

 

 

 

半導體儀器和電子產品耗材耗材

產地類別 進口

 

 

Orion HDCVD 高密度氣相化學沉積系統采用高密度的化學氣相沉積技術,在惰性氣體進入口安裝感應線圈,周圍布置陶瓷管。射頻創建等離子體,通過氣體環在襯底表面附近引入揮發性氣體。當惰性氣體與揮發性物質結合時,會發生化學反應,然后在襯底表面沉積一層薄膜.

該技術不需要將襯底加熱到典型的PECVD溫度,并且該方法非常適合沉積在有機物、柔性襯底和其它具有溫度限制的表面上。            

射頻可通過Chuck改變薄膜性能。            

該系統可以升級傳送Loadlock,或添加到集群平臺Cluster。

該系統可以升級傳送Loadlock,或添加到集群平臺Cluster。

 

 

 

 



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