產品概述：

       高溫真空CVD設備由滑動式快速退火管式爐+真空系統+供氣系統組成 ，溫度可以達到1200度,可以是單溫區、雙溫區、三溫區等，極限真空可以達到10-3Pa，供氣系統是流量調節可以是質子流量計或浮子流量計，混氣路數可以是2路、3路、4路、5路相混合，可以對多種氣體進行精確的混氣，然后導入到管式爐內部。 快速退火爐爐管兩端安裝真空法蘭，真空度用分子泵可以到10-5Torr，機械泵可到10-3Torr。爐底安裝一對滑軌，可用手動滑動。加熱和冷卻速率可達100°C/m。為取得快加熱，可以預先加熱爐子到設定的溫度，然后移動爐子到樣品位置。為獲得冷卻，可在樣品加熱后移動爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環境下可以達到10°C/s，是低成本快速熱處理的理想爐子

適用范圍：

       高溫真空CVD設備廣泛用于各種反應溫度在1200℃左右的CVD實驗，也可用于：真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。它是一種特殊的高真空CVD系統，是高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、CVD涂層、真空退火用的理想產品。