| 產地類別 | 國產 | 價格區間 | 1-5萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 環保,電子/電池,綜合 | 功率 | ≤1200W |
| 擋板類型 | 電控 | 真空度 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa |
鄭科探小型熱蒸發鍍膜儀
通過定時調節預熱功率及蒸發功率，可對大部分金屬（金，銀，銅，鉻，鎳等）和有機物進行均勻蒸發沉積。真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。
主要特點/優勢：
★ 玻璃鐘罩真空腔室，最直觀的蒸發狀態和薄膜沉積現象觀察；
★ 復合分子泵和直聯旋片泵，大抽速準無油真空系統（分子泵抽速≥400L/S）；
★ 兩組水冷式蒸發電極，可長時間穩定工作，兼容金屬材料與有機材料的蒸發源設計；
★ 專業真空蒸發電源，數顯工作電流和電壓，恒流輸出；
★ 可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；
★ 襯底可選擇加熱或水冷，源基距≥300mm；
★ 可調速旋轉靶臺使薄膜更均勻
★ 可沉積金屬（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金屬、化合物（MoO3, LiF等）及有機物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；
★ 7寸顯示器定時定點調節電流，達到控制功率效果
★ 具有記憶儲存功能，直接調出已儲存的數據進行鍍膜達到同樣工藝效果
★ 配置了靶臺擋板，可手動調節或自動調節擋板，及時遮擋樣品，保證樣品效果
鄭科探小型熱蒸發鍍膜儀
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