一、產品概述：

離子研磨系統是一種用于樣品表面精密處理的設備，利用離子束對材料表面進行刻蝕和拋光。該系統廣泛應用于材料科學、電子工程及顯微鏡樣品制備等領域，能夠實現高質量的表面平整度和光滑度。

二、設備用途/原理：

·設備用途

離子研磨系統主要用于制備電子顯微鏡樣品、改善材料表面的特性以及去除表面缺陷。工程師和研究人員可以利用該系統進行材料的表面分析和處理，以確保樣品在后續測試中的可靠性和準確性。

·工作原理

離子研磨系統通過產生高能離子束并將其聚焦到樣品表面，利用離子束的轟擊作用去除表面材料。系統可以調節離子束的能量、角度和處理時間，以實現不同深度和形狀的表面處理。通過精確控制這些參數，用戶可以獲得所需的表面光滑度和特性，確保樣品在顯微鏡觀察或其他測試中的高質量表現。

三、主要技術指標：

1. 為了對樣品內部結構進行觀察、分析，必須讓樣品內部結構顯露出來，日立離子研磨裝置使用大面積低能量的Ar離子束，加工出無應力損傷的截面，為SEM觀察樣品的內部多層結構、結晶狀態、 異物解析、層厚測量等提供有效的處理方法

2. 制成的低損傷的截面便于表層以下內部結構分析

3. 適用樣品：電子元件如IC芯片、PCB、LED等（多層、裂

4. 痕、孔洞分析）、金屬（EBSD晶體結構、EDS元素分析、鍍 層）、高分子材料、紙、陶瓷、玻璃、粉末等

5. 可移動的樣品座可精確定位、實現對特定位置的研磨

6. 大樣品: 寬20 mm× 長12 mm× 厚7 mm

7. 聯用樣品臺在機械研磨、離子研磨、SEM觀察（Hitachi機型）之間不用更換樣品臺