蔡司顯微鏡Xradia Ultra 納米級X射線成像能力的優良設備。這款設備結合了吸收襯度和相位襯度的功能，并通過使用由同步輻射光學器件改造而來的附件，使其在光子能量為5.4KeV時的納米成像能力提高了10倍。

對于中低原子序數的樣品，Xradia 810 Ultra的低能量特性能夠實現更優質的襯度和圖像質量。其無損分析步驟的加入，使這款設備在研究領域取得了重大突破。設備能夠在5.4 keV下利用更高的襯度對許多難以成像的材料進行高分辨率的X射線成像。此外，它還可以利用吸收襯度和相襯技術來優化各種材料的成像，包括聚合物、氧化物、復合材料、燃料電池、地質樣品以及生物材料等。

蔡司顯微鏡Xradia Ultra 納米級X射線成像技術的引入，不僅提高了成像速度，還擴展了X射線成像在科學和工業領域的應用。無論是科學研究還是工業應用，這款設備都能提供高精度、高分辨率的X射線成像，為研究者提供豐富的材料信息和微觀結構細節。

總的來說，蔡司Xradia Ultra納米級X射線成像技術是一種優良的無損分析技術，具有廣泛的應用前景。無論是在材料科學、地質學、生物學還是其他領域，它都能為研究者提供深入洞察材料特性和行為的能力，推動科學的進步。