1. 產品概述

SE 401adv 通過映射高達 200 毫米的液體單元、用于原位測量的液體單元、攝像機、自動對焦、模擬軟件和經過認證的標準晶圓，可根據您的需求進行調整。

2. 主要功能與優勢

亞埃精度

穩定的氦氖激光器保證了 0.1 ? 的精度，用于超薄單層的薄膜厚度測量。

高速

SENTECH SE 401adv 激光橢偏儀的測量速度使用戶能夠監測單片生長和終點檢測，或繪制樣品的均勻性圖譜。

測量的橢圓角具有高穩定性和再現性

原位橢偏儀 SE 401adv 可用于監測反射樣品表面不同環境因素的生長和蝕刻過程。它測量橢圓角度 Ψ 和 Δ 的時間依賴性，并實時計算厚度和折射率 

3. 靈活性和模塊化

SENTECH SE 401adv 原位激光橢偏儀可用于從可選的、特定于應用的入射角表征單個薄膜和基板。自動準直望遠鏡可確保在大多數具有平坦反射表面的吸收性或透明基材上進行精確測量。集成的多角度測量支持（40° – 90°，步長為 5°）可用于確定層堆疊的厚度、折射率和消光系數。

SENTECH SE 401adv是用于超薄單膜厚度測量的激光橢偏儀。SENTECH SE 401adv 原位激光橢偏儀的選件支持微電子、光伏、數據存儲、顯示技術、生命科學、金屬加工以及更多沿技術中的應用。

SENTECH SE 401adv 通過映射高達 200 毫米的液體單元、用于原位測量的液體單元、攝像機、自動對焦、模擬軟件和經過認證的標準晶圓，可根據您的需求進行調整。