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MAKEWAY 低能電子顯微鏡/LEEM

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上海麥科威半導體技術有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家專業的微納材料、半導體和微電子材料及器件研發儀器及設備的供應商,所銷售的儀器設備廣泛用于高校、研究所、以及半導體和微電子領域的高科技企業。目前總部在上海,香港、南通、深圳、北京分別設立分公司和辦事處,快速響應客戶需求。同時上海麥科威在快速擴展海外市場,并設立新加坡分公司,輻射東南亞市場。

      上海麥科威半導體技術有限公司主要銷售產品包括:  - 霍爾效應測試儀;  - 快速退火爐;  - 回流焊爐,共晶爐,釬焊爐,真空燒結爐;  - 電子束蒸發鍍膜機,熱蒸發鍍膜機;  - 探針臺,低溫探針臺,微探針臺;  - 金剛石劃片機; - 球焊機,鍥焊機;  - 磁控濺射鍍膜機;  - 原子層沉積系統,等離子增強原子層沉積設備;  - 電化學C-V剖面濃度分析儀(ECV Profiler); - 掃描開爾文探針系統; - 光學膜厚儀; -貼片機-PECVD\CVD;-脈沖激光沉積系統-PLD-納米壓??;-等離子清洗機、去膠機;-反應離子刻蝕RIE; - 光刻機、無掩膜光刻機; - 勻膠機; - 熱板,烤膠板; -少子壽命、太陽能模擬器;-NMR-瞬態能譜儀-外延沉積-等離子清洗機-離子注入-劃片機、裂片機光刻機(針尖/電子束光刻機EBL,紫外光刻機,激光直寫光刻機),鍍膜機(磁控濺射機,電子束蒸發機,化學沉積機,微波等離子沉積機,原子層沉積機  等等…

企業客戶:華為技術有限公司, 深圳市鵬芯微集成電路制造, 深圳清力技術, 安徽格恩半導體, 蘇州稀晶半導體科技, 矽品半導體, 廈門海辰新能源科科, 中核同創(成都)科技, 洛瑪瑞芯片技術(常州),偉創力科技, 奧普科星河北科技,廣東五星太陽能,廣東萬和集團,西安西測股份, 普源精電科技, 普源精電科技股份, 上海蔚來汽車, 北京華脈泰科, 廣醫東金灣高景太陽能科技, 深圳匯佳成電子, 深圳市化訊半導體材料, 珠海珍迎機電, 合肥鼎材科技, 山東金晶節能玻璃, 江蘇云意電氣股份, 廣東風華技股份, 浙江中能合控股集團,固安維信諾,淮安天合光能,浙江老鷹半導體, 四川信通電子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大學, 汕頭大學, 南方醫科大學, 清華大學, 北京大學, 復旦大學, 西北工業大學, 南京醫科大學, 香港中文大學, 香港城市大學, 蘇州大學, 深圳職業技術學院, 南京大學合肥國家試驗室, 上海交通大學醫學院, 華南理工大學,華東師范大學,江南大學,重慶26所, 深圳大學, 南方科技大學, 深圳技術大學, 理化技術研究所, 中國工程物理研究院激光聚變研究中心, 廣東粵港澳大灣區黃埔材料研究院, 桂林電子科技大學, 上海硅酸鹽研究所, 中國航天五院,中科合肥智慧農業協同創新研究院等。

 

 

 

 

 

 

 

 

半導體設備,快速退火爐,原子層沉積,鍵合機,光刻機

應用領域 綜合

低能電子顯微鏡/LEEM介紹:

LEEM是廣泛應用于材料科學領域的高技術分析儀器,能集原位觀測、超快及光電子成像于一體,即我們所稱的“長眼睛的超級XPS",能對薄膜以及二維材料、鋰離子電池、鈣鈦礦太陽能電池材料等的表面電子行為進行實時激發、圖像采集及定量分析,此外LEEM還可定量地解析各種薄膜材料在生長過程中所處的能帶狀態,因而可以對電子材料制備、使用和失效過程進行有效的表征,從而揭示電子材料的化學成分、能帶及其價態與性能的作用機理。LEEM與成像功能和離子濺射刻蝕相結合,可以用于固體表面元素成分及價態的面分布和深度剖析;與離子蒸鍍或其他分子束外延技術相結合,可以進行原位樣品的制備及分析工作。當電子到樣品的著陸能量較低時,會在樣品表面發生衍射。對衍射斑點進行成像,可以獲得LEED圖像,得知表面晶向結構。同時可以與光闌配合,調控電子束在表面的位置與大小,進行微區LEED表征,這樣就不僅可以對樣品表面進行實空間成像,還可以得知樣品各微觀位置的晶向結構。這也是PEEM/LEEM系統一大優勢。因此,LEEM在電子薄膜材料、半導體材料、納米材料、能源、催化分析等方面具有不可替代的作用。

低能電子顯微鏡/LEEM配置清單:

序號

具體配置

數量

1

超高真空分析腔

1套

2

冷場發射電子槍

1套

3

電子光學透鏡系統

1套

4

超高真空泵組

1套

5

高精度五軸全自動馬達驅動樣品臺

1套

6

樣品傳輸和快速進樣腔

1套

7

減震平臺

1套

8

操作電腦(預裝操作系統和數據采集軟件,2個24寸顯示屏)

1套

9

紫外光源

1套

10

帶相差矯正功能

1套

技術參數:

1、主分析腔真空≤2×10-10mbar,主分析腔和快速進樣腔之間配有過渡腔,留有擴展接口,可用于后期與其它設備互聯

2、高精度5軸馬達全自動驅動樣品臺,XYZ和2個Tilt方向全部馬達驅動

3、高通量放電汞燈一個,用于PEEM成像

4、高溫成像樣品溫度可達1500K

5、磁偏轉棱鏡采用90°偏轉,易于光路整體校正

6、冷場發射電子槍,電子束斑直徑200nm- 40μm,能量分布FWHM≤0.3eV;空間分辨率<5nm(LEEM模式),<10nm(PEEM模式);像差校正:LEEM空間分辨率優于3nm

7、能量分辨率<250meV

8、樣品位置穩定性<5nm,再現性<500nm

9、軟件能操控能量狹縫位置,可快速實現能量過濾成像







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