XAFS/XES X射線精細(xì)結(jié)構(gòu)分析譜儀
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 國創(chuàng)科學(xué)儀器（蘇州）有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) XAFS/XES
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/7/28 10:03:23
- 訪問次數(shù) 109
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國創(chuàng)科學(xué)儀器(蘇州)有限公司是一家專注于X射線科學(xué)儀器研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用的科技型企業(yè)，由長三角國家技術(shù)創(chuàng)新中心與長三角先進(jìn)材料研究院聯(lián)合創(chuàng)立。
公司定位：為化學(xué)、物理、材料等領(lǐng)域提供具有競爭力、安全可靠的儀器設(shè)備、解決方案及服務(wù)。
核心優(yōu)勢(shì)：
● 研發(fā)實(shí)力：團(tuán)隊(duì)擁有近二十年同步輻射研究經(jīng)驗(yàn)，完成十余項(xiàng)國家及省部級(jí)項(xiàng)目，獲二十余項(xiàng)zhuanli。
● 創(chuàng)新產(chǎn)品：
(1)臺(tái)式中能X射線吸收譜儀(國內(nèi)供應(yīng)商)；
(2)寬能譜、快掃型、多功能等系列X射線吸收譜儀；
(3)通用型硬X射線吸收/發(fā)射譜儀。
● 持續(xù)投入：專注于為用戶提供專業(yè)化的X射線技術(shù)解決方案。
X射線吸收譜儀
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,綜合 |
|---|
X射線精細(xì)結(jié)構(gòu)分析譜儀(XAFS/XES)是一種用于研究材料局部結(jié)構(gòu)和電子狀態(tài)的非破壞性技術(shù)。該技術(shù)利用 X 射線與物質(zhì)的相互作用，獲取指定元素的近邊吸收譜(XANES)、擴(kuò)展遠(yuǎn)邊吸收譜(EXAFS)和特定能帶發(fā)射譜，分別用于分析元素的化學(xué)狀態(tài)和價(jià)態(tài)、原子周圍局部環(huán)境的配位結(jié)構(gòu)，以及甄別測(cè)量元素的配位原子類別，是表征晶態(tài)和非晶態(tài)材料微觀配位結(jié)構(gòu)的重要手段。XAFS/XES主要應(yīng)用于催化劑 、合金、陶瓷、環(huán)境污染物、各類晶態(tài)和非晶態(tài)材料及生物樣品內(nèi)金屬離子的價(jià)態(tài)、配位結(jié)構(gòu)及電子狀態(tài)分析，以及材料局部結(jié)構(gòu)在熱場、光場、電場和磁場變化下的局部結(jié)構(gòu)動(dòng)態(tài)演化過程研究等。
1. X射線精細(xì)結(jié)構(gòu)分析譜儀核心原理
X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)(XAFS)：
當(dāng)X射線穿過材料時(shí)，原子吸收特定能量(對(duì)應(yīng)電子躍遷)，形成吸收譜。吸收邊附近的精細(xì)結(jié)構(gòu)(EXAFS和XANES)反映原子間距、配位數(shù)、局域結(jié)構(gòu)等信息。
EXAFS(擴(kuò)展X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu))：高能區(qū)振蕩信號(hào)，反映近鄰原子排列。
XANES(X射線吸收近邊結(jié)構(gòu))：吸收邊附近區(qū)域，反映電子態(tài)和對(duì)稱性。
2. 儀器組成
光源：同步輻射源(高亮度、連續(xù)可調(diào)能量)或?qū)嶒?yàn)室X射線管(如Cu靶、Mo靶)。
單色器：選擇特定能量的X射線(如硅晶體單色器)。
樣品室：真空或可控氣氛環(huán)境，配備樣品臺(tái)。
探測(cè)器：
XAFS：電離室或硅漂移探測(cè)器(SDD)測(cè)量熒光或透射信號(hào)。
XPS：半球分析器(HEA)測(cè)量光電子動(dòng)能。
數(shù)據(jù)系統(tǒng)：采集和處理譜圖(如傅里葉變換用于EXAFS分析)。
3. 關(guān)鍵參數(shù)
能量分辨率：決定譜圖細(xì)節(jié)的分辨能力(如eV量級(jí))。
信噪比：影響弱信號(hào)的檢測(cè)(同步輻射可顯著提升信噪比)。
探測(cè)深度：
XAFS：體相敏感(透射模式)或表面敏感(熒光模式)。
XPS：表面敏感(探測(cè)深度約1-10 nm)。
4. 應(yīng)用領(lǐng)域
材料科學(xué)：催化劑活性位點(diǎn)、電池材料局域結(jié)構(gòu)、納米顆粒尺寸。
化學(xué)：配位環(huán)境、氧化態(tài)(如Fe2?/Fe3?區(qū)分)。
環(huán)境/生物：重金屬吸附機(jī)制、蛋白質(zhì)金屬中心結(jié)構(gòu)。
半導(dǎo)體：薄膜成分與界面化學(xué)態(tài)分析(XPS)。
5. 數(shù)據(jù)處理
XAFS：
背景扣除(如Victoreen公式)。
邊階歸一化。
EXAFS傅里葉變換獲得徑向分布函數(shù)。
擬合模型(如FEFF理論計(jì)算)。
XPS：
結(jié)合能校準(zhǔn)(通常以C 1s=284.8 eV為參考)。
峰擬合(分峰分析化學(xué)態(tài))。
6. 優(yōu)缺點(diǎn)
優(yōu)點(diǎn)：
元素選擇性(特定吸收邊或光電子峰)。
無需長程有序(適用于非晶、液體)。
局限：
XAFS需要高亮度光源(同步輻射最佳)。
XPS僅限表面分析，且可能受電荷效應(yīng)影響。
7. 擴(kuò)展技術(shù)
μ-XAFS：微區(qū)分析(空間分辨率μm級(jí))。
原位XAFS/XPS：實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)反應(yīng)過程(如電化學(xué)、高溫)。
8. 常見縮寫
XAFS：X-ray Absorption Fine Structure
XANES：X-ray Absorption Near Edge Structure
EXAFS：Extended X-ray Absorption Fine Structure
XPS：X-ray Photoelectron Spectroscopy
掌握X射線精細(xì)結(jié)構(gòu)分析譜儀這些基礎(chǔ)知識(shí)點(diǎn)后，可進(jìn)一步學(xué)習(xí)特定實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)、數(shù)據(jù)解析方法或結(jié)合其他表征技術(shù)(如XRD、XAFS)進(jìn)行綜合材料分析。
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