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日立分析儀器(上海)有限公司

化工儀器網>產品展廳>分析儀器>光譜>其它光譜儀>XAD-μ-wafer 能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF

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XAD-μ-wafer 能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF

參考價500000.00
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 深圳市恩陽電子有限公司
  • 品牌其他品牌
  • 型號XAD-μ-wafer
  • 所在地深圳市
  • 廠商性質經銷商
  • 更新時間2025/7/31 8:34:56
  • 訪問次數 106
規格
500000.00元100 件可售

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深圳市恩陽電子有限公司是一家集X熒光光譜儀(RoHS檢測儀,膜厚測試儀)維修、鹵素升級、光譜儀買賣租賃及儀器數據校正為一體的綜合性服務企業。公司成立于2012年10月,坐落于深圳市松崗鎮。公司本著“客戶至上、高效快捷、誠信務實、價格合理”的經營合作理念,為您提供快速優質的技術服務。深圳恩陽電子有限公司由資深原各大儀器廠商技術專家和營銷精英組建,目前已經與眾多優秀的企業合作,致力打造X熒光光譜儀*質的服務平臺!

深圳市恩陽電子供應二手天瑞儀器,二手Fisher儀器。XULM,EDX1800/EDX2800/EDX3000C型和EDX3000B型等設備,成色新,能應付公司工廠的ROHS品質篩選,并可長期/短期審廠租賃,能檢重金屬,鹵素,鍍層分析,玩具指令等。為你的生產保駕護航

 

 

ROHS檢測儀器,膜厚測試儀器,X射線儀器維修,儀器租賃等

應用領域 化工,電子/電池,鋼鐵/金屬,航空航天,電氣

能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF

能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF是一款專用于超小測量點或極薄涂層的分析測量的儀器,在柔性電路板、芯片封裝環節、晶圓微區的鍍層厚度和成分自動測試分析中盡顯優勢。

可以測量微電子設備、高級線路板、連接器、引線框架和晶片的超微小區域。

 

1)搭載微聚焦加強型X射線發生器及多導毛細管技術,測量直徑可小至10μm

2)全景+微區雙相機設計,觀察樣品更為全面,微區小至微米級別的分辨率,實現更快速便捷的測試

3)基于EFP算法的新一代膜厚測量軟件EFP-T,支持基于標樣的定量分析,支持無標樣定性分析,可同時分析23個鍍層,24種元素

4)大面積高分辨率Dpp+Fast SDD探測器,優于125eV

5)測量元素范圍:鋁Al(13)-鈾U(92)

6)涂鍍層分析范圍:鋰Li(3)-鈾U(92)

7)安全互鎖、防夾手及Z軸防碰撞設置,V區激光保護,保護測量頭的同時,測量距離,可測樣品類型范圍更廣

配備全自動可編程移動平臺,可實現無人值守,對成百上千個樣品進行全自動檢測

能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF

行業應用:Bumping(Solder Bump- Ag含量檢測)

Flip-Chip是優良封裝最大市場,Bumping是其主要的工藝,顯著提高集成密度。目前,頭部晶圓制造廠將Bump Pitch推進至10μm以下,國內大封裝廠挺近40μm。

Bumping/μ-Bumping,(微)凸塊制造技術是倒裝等發展演化的基礎工程,并延伸演化出TSV、WLP、2.5D/3D、MEMS等封裝結構與工藝,廣泛應用于5G、人工智能、云計算、可穿戴電子、物聯網、大數據處理及儲存等集成電路應用中。

錫銀凸塊制程中,無鉛焊錫:錫銀Sn-Ag, 錫銀銅Sn-Ag-Cu作為無鉛焊錫廣泛使用在PCB, Bump上。針對無鉛焊錫凸塊(Lead Free solder Bump)其中銀的濃度大小將直接影響焊錫的熔點和質量,因此在焊錫的質量管理中銀含量的濃度要求是十分嚴格的。而凸塊的面積很小, 在常規XRF小樣品小準直器光通量小下,不能精準分析其中的Ag含量,很難實現對產品工藝實時優化。

能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF

行業應用:金屬薄膜沉積厚度及成分檢測(PVD/CVD)

芯片是由一系列有源和無源電路元件堆疊而成的3D結構,薄膜沉積是芯片前道制造的核心工藝之一。從芯片截取橫截面來看,芯片是由一層層納米級元件堆疊而成,所有有源電路元件(例如晶體管、存儲單元等)集中在芯片底部,另外的部分由上層的鋁/銅互連形成的金屬層及各層金屬之間的絕緣介質層組成。

薄膜的制備需要不同技術原理,因此導致薄膜沉積設備也需要不同技術原理,物理/化學等不同沉積方法相互補充。

薄膜沉積工藝主要分為物理和化學方法兩類

1)物理方法:指利用熱蒸發或受到粒子轟擊時物質表面原子的濺射等物理過程,實現物質原子從源物質到襯底材料表面的物質轉移。物理方法包括物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)、旋涂、電鍍(Electrondeposition/Electroplating,ECD/ECP)等

2)化學方法:把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應劑的蒸汽,以合理的氣流引入工藝腔室,在襯底表面發生化學反應并在襯底表面上沉積薄膜。化學方法包括化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition,CVD)和外延(Epitaxy,EPI)等,

PVD主要用來沉積金屬及金屬化合物薄膜,最主要用于金屬互連籽晶層、阻擋層、硬掩膜、焊盤等。磁控濺射PVD主要用于Al金屬籽晶層、TiN金屬硬掩膜。磁控濺射PVD中的磁控DCPVD是應用廣泛的沉積方式,特別是對于平面薄膜的沉積,比如Al互連的金屬層,但在Cu互連(CuBs)中應用減少,32nm以下的TiN硬掩膜又開啟了這類技術的新應用。離子化PVD主要用于Al的阻擋層、CuBs中的阻擋層和籽晶層,也可以和金屬CVD結合用于沉積鎢栓塞中的Ti粘附層。

CVD常用于沉積絕緣介質薄膜,用于前段的柵氧化層、側墻、阻擋層、PMD等領域和后段的IMD、Barc、阻擋層、鈍化層等領域,另外CVD也可以制備金屬薄膜(如W等)。

XAD-μ-wafer搭載一六儀器國產自研的多導毛細光學系統,同時能夠提供小至10μm的光斑、上千倍的強度增益,可以解決Au、Ag、Al、Ti/TiN、V、Ni、W、Cu、Mo鍍層精準測試,常規金屬薄膜厚度檢出限可至1nm。

 

能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF

能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF

能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF

 

EFP軟件操作界面截圖:

1. 清晰化操作界面布局

    簡約的布局設計,可令操作員快速的掌握軟件基本操作。

2. 程式快捷鍵按鈕設計

增加了日常鍍層程序快捷鍵設計按鈕,無需進入程序庫挑選,便可快速檢測,提升工作效率。

3. 高清全景微區可視化窗口

   可以清晰直觀的觀測到被檢測樣品的狀態,通過變焦調節旋鈕,達到用戶理想的觀測效果。

4. 儀器數據實時監測數據匯總

可一目了然的觀測到儀器所有數據,有任何異常,系統都將第一時間提醒,大大降低操作失誤。

 

 
產品名稱 能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF
產品型號 XAD-μ-wafer
測量元素范圍

Al(13)- U(92)

涂鍍層分析范圍

Li(3)- U(92)

EFP算法

標配

分析軟件

同時分析23個鍍層,24種元素

不同層相同

元素檢測能力

標配

軟件操作

基于新一代的EFP算法,人性化封閉軟件,自動判斷故障提示校正及操作步驟,避免誤操作

X射線裝置

微聚焦加強型射線管,靶材可選:Mo、Rh、Cr、W

探測器

DPP+Fast SDD探測器70mm²

毛細聚焦光學器件

標配15μm FWHM(選配5-100μm)

濾光片

8種濾光片切換裝置

放大倍數

廣角+微區相機(光學放大330倍,數字放大1-6倍)

Z軸移動范圍

依樣品定制,適配行程可>100mm

樣品臺移動方式

全自動高精密XY平臺

樣品臺行程

300*300mm(可定制600*600mm)

其他附件

電腦一套、打印機、附件箱、十二元素片(可選配定制晶圓轉運器、尋邊器、真空吸附裝置等)

X射線標準

DIN ISO 3497、DIN 50987和ASTM B 568

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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