CY-HP200 光刻膠烤膠機
- 公司名稱 鄭州成越科學儀器有限公司
- 品牌
- 型號 CY-HP200
- 產地
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2025/7/31 9:59:34
- 訪問次數 20
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8英寸光刻膠烤膠機主要用于半導體制造中的光刻工藝,具體應用領域和作用如下:
應用領域:
半導體制造:用于光刻膠的烘烤,確保圖案轉移的**性。
微電子機械系統(MEMS):在MEMS器件制造中,用于光刻膠的固化。
光電子器件:在激光器、探測器等器件制造中,用于光刻膠處理。
平板顯示:在液晶和OLED顯示面板制造中,用于光刻膠烘烤。
作用:
去除溶劑:通過加熱蒸發光刻膠中的溶劑,增強附著力。
提高穩定性:固化光刻膠,提升其在后續工藝中的穩定性。
優化圖形轉移:確保光刻膠均勻烘烤,提高圖案轉移精度。
增強抗蝕性:提升光刻膠在刻蝕和離子注入中的抗蝕能力。
主要特點:
均勻加熱:確保晶圓表面溫度均勻。
**控溫:溫度控制精度高,適應不同工藝需求。
高效生產:支持多片晶圓同時處理,提升效率。
總結:8英寸光刻膠烤膠機在半導體及相關領域的光刻工藝中,主要用于光刻膠的烘烤和固化,確保圖案轉移的**性和工藝穩定性。
8英寸光刻膠烤膠機技術參數:
產品名稱 | 8英寸光刻膠烤膠機 |
產品型號 | CY-HP200 |
加熱面板尺寸 | 340mm*340mm方形 |
電源輸入 | AC220V,1000W |
控溫范圍 | 室溫-300°C |
溫度分辨率 | 0.1℃ |
控溫精度 | 士0.2°C |
溫度均勻性 | 2% |
頂針高度分辨率 | 0.1mm |
真空接口 | 設備后板出口外徑6mm |
真空輸入要求 | 0.04~0.09Mpa |
控制系統 | 觸摸屏操作,**PLC控制 |
設備重量 | 10kg |
設備尺寸 | 390*366*250mm |