CVD管式爐的應用領域以及特點

閱讀：8510發布時間：2017-9-4

　　CVD管式爐應用領域：

　　廣泛適用于高、中、低溫CVD工藝，例如：碳納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結構的可控生長等等;也可適用于金屬材料的擴展焊接以及真空或保護氣氛下熱處理.

　　產品特點：

　　專門設計用于高溫材料沉積之用。硅鉬棒加熱、剛玉爐管爐膛, 可預抽真空,便于通入參加反應的氣體， CVD管式爐進口單回路智能溫度控制儀控制、溫區設計隔板結構。具有溫度均勻、控制穩定、溫區間溫度擾動孝升溫速度快、節能、使用溫度高、壽命長等特點，是理想的科研設備。

　　1、外觀采用耐高溫、耐腐蝕油漆處理。

　　2、控制臺采用智能PID數顯控制器、穩定性好、精度高，配有電流表、結構新穎。

　　3、爐門采用加厚、加固處理，防止變形

　　4、爐襯采用高純氧化鋁和保溫棉，保溫效果好

　　5、爐膛溫度時時檢測功能(不加熱情況下同樣顯示爐膛實際溫度，便于隨時觀察爐膛溫度情況)。具有過載保護和短路保護

　　6、爐殼選用鋼板折邊焊接制成，工作室為耐火材料制成的爐膛，加熱元件置于其中，爐與殼間用保溫材料砌筑。

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