高溫真空氣氛爐為真空爐的一種，以硅碳棒為加熱元件，爐體采用雙層爐殼結構，雙層風冷系統，可以快速升降溫，爐殼表面溫度低，廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發、特種材料、建材等領域。
結構：
爐體部分：爐膛采用莫來石聚輕磚砌筑，爐膛內上下用碳化硅棚板，爐內溫度是加熱元件在加熱過程中經過碳化硅棚板傳導（暗火加熱），溫度更均勻。爐殼密封。為提高高溫真空氣氛爐的密封墊的使用壽命在爐門口設有循環水冷套以降低密封處的溫度。進氣設爐膛底部，經加熱腔預熱后分多處進入爐內，排氣經爐頂后部排出。保證爐內氣氛均勻，減小爐內溫差。
電氣部分：電氣部分采用與氣氛爐爐體體化結構，整個電氣元件安裝在爐體底部的側，結構緊湊、占用空間小。溫控安裝在爐體側面板上，觀察直觀，調節方便，溫控儀具有PID調節功能，可自動跟蹤設定PID值，可任意設定測量分度密碼，同時具備補償功能，可使爐膛溫度與顯示值致。
高溫真空氣氛爐滿足于不同工藝實驗而殊制造，適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業理想的實驗和生產設備。
20
立即詢價
您提交后，專屬客服將第一時間為您服務