光譜橢偏儀是一種用于探測薄膜厚度、光學常數以及材料微結構特性的光學測量設備，是隨著現代科技的發展而迅速發展起來的光學無損檢測方法。可測的樣品包括大塊材料、薄膜以及在平面基底上生長或沉積的多層結構。多層固體、液體、與固體相鄰的液體以及與固體接觸的氣相等離子體的特性等都可以用這一技術來探測。由于與樣品非接觸，對樣品沒有破壞并且不需要真空，使得橢偏儀成為一種具有吸引力的探測設備。它已越來越廣泛的用于介電、半導體、金屬、有機物等各種材料的光學特性、結構特征、生長過程和材料質量的快速測試與研究。此光譜橢偏儀是當今國際上一種紅外波段、單色儀分光形式的橢圓偏振光譜儀，它具有高準確度，高精度和比基于紅外傅里葉光譜儀的橢偏光譜儀便宜得多等優點。
光譜范圍：
最初，橢偏儀的工作波長多為單一波長或少數獨立的波長，最典型的是采用激光或對電弧等強光譜光進行濾光產生的單色光源。大多數的橢偏儀在很寬的波長范圍內以多波長工作。和單波長的橢偏儀相比，光譜型橢偏儀有下面的優點：可以提升多層探測能力，可以測試物質對不同波長光波的折射率等。
橢偏儀的光譜范圍在深紫外的142nm到紅外33um可選。光譜范圍的選擇取決于被測材料的屬性、薄膜厚度及關心的光譜段等因素。例如，摻雜濃度對材料紅外光學屬性有很大的影響，因此需要能測量紅外波段的橢偏儀；薄膜的厚度測量需要光能穿透這薄膜，到達基底，然后并被探測器檢測到，因此需要選用該待測材料透明或部分透明的光譜段；對于厚的薄膜選取長波長更有利于測量。
應用：
應用領域：半導體、微電子、MEMS、通訊、數據存儲、光學鍍膜、平板顯示器、科學研究、物理、化學、生物、醫藥等；
可測材料：半導體、介電材料、有機高分子聚合物、金屬氧化物、金屬鈍化膜、自組裝單分子層、多層膜物質和石墨烯等等。
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