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貨物所在地：上海上海市
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更新時間：2024-08-29 09:37:48
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光刻掩膜版photomask是微電子領(lǐng)域高精度光刻掩膜板,光罩、光掩模和X射線成像感光板,采用鹵化銀感光物質(zhì),也可用于同步加速器設(shè)備中的布拉格衍射X射線斷層攝影和X射線放射成像,性能不低于Agfa（Millimask）和柯達(dá)HR-P,TE板。
感光物質(zhì)壽命：12個月
成像觀察壽命：18個月。
光刻掩膜版具有高分辨率，高耐久性和*異的乳劑層與玻璃基底的粘附性能,具有2.5微米的攝像分辨率。
光刻掩膜版標(biāo)準(zhǔn)尺寸***406×300mm,玻璃襯底厚度為2.5mm。 所有光刻掩膜版都配有防暈涂層,我們也可根據(jù)客戶要求定制不同尺寸的掩膜版。
光刻掩膜版特性
| 平均敏感度，ISO 負(fù)性過程： 反轉(zhuǎn)過程： | 0.02 0.04 |
| 對比度不小于 | 5 |
| ***大密度不小于 | 3 |
| ***大感光波長 | 525nm |
| 感光光譜范圍 | 400-565nm |
| 霧密度不大于 | 0.02 |
| 分辨力能力 | 3,000mm-1 |
| 加工后乳液層強度 | 0.9kg力 |
| 乳液層形變溫度 | 55℃ |
訂購規(guī)格：
63x63mm-30片/包
51x254mm-12片/包
76x76mm-30片/包
102x102mm-30片/包
102x127mm-25片/包
127x355mm-12片/包
63x63mm尺寸包裝圖
102x127mm規(guī)格的包裝圖
180x240mm及其以上尺寸包裝圖
處理和處理建議
使用深綠色濾光片（透射區(qū)域-530nm及以下）在間接非光化光中開封,加工。 加工溶液溫度-20±2℃。 儲存條件：濕度65％和12-15攝氏度。
| VRP材料制作掩膜版的建議工藝參數(shù) | ||
| 負(fù)過程 | 溶液溫度 | |
| 曝光 | ||
| 顯影 | 研制在蒸餾水中稀釋的濃縮VRP顯影劑1：5,4-5min | 20 |
| 沖洗 | 水3分鐘 | 17±2 |
| 固定 | 固定器5-10分鐘 | 20 |
| 洗滌 | 水3分鐘 | 17±2 |
| ***終洗滌 | 水用潤濕劑（Agepon）1min | 17±2 |
| 干燥 | 慢氣 | 20±4 |
| 沖銷過程 | ||
| 曝光 | ||
| 顯影 | 在蒸餾水中稀釋的濃縮VRP顯影劑1：1.7,4.5min | 20 |
| 沖洗 | 水洗3分鐘 | 17±2 |
| 漂白 | 漂白，1.5分鐘 | 20 |
| 沖洗 | 水洗3分鐘 | 17±2 |
| 增亮 | 增亮劑3分鐘 | 20 |
| 沖洗 | 水沖洗5分鐘 | 17±2 |
| 照明 | 500W燈，距離乳液70厘米，1分鐘 | |
| 第二顯影 | 稀釋在蒸餾水中的顯影濃縮VRP顯影劑1：5-3分鐘 | 20 |
| 沖洗 | 水沖洗1分鐘 | 17±2 |
| 固定 | 固定器，2分鐘 | 20±4 |
| 沖洗 | 水洗3分鐘 | 17±2 |
| ***終洗滌 | 帶潤濕劑的水（Agepon）1min | 17±2 |
| 干燥 | 慢氣 | 20±4 |
| 用于X射線層析成像和放射照相術(shù)的VRP光刻掩膜版材料處理方案 | ||
| 程序 | 化學(xué)制品 | 溫度 |
| 曝光 | ||
| 顯影 | 柯達(dá)RP X-OMAT顯影，5分鐘 | 20 |
| 洗滌 | 2分鐘 | 17±2 |
| 固定 | 柯達(dá)RP X-OMAT LO固定器，5分鐘 | 20 |
| 洗滌 | 水10分鐘 | 17±2 |
| 干燥 | 慢氣 | 20±4 |
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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