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這套聚焦離子束蝕刻系統采用模塊化結構，允許大量選擇符合終端用戶特定需求和目標的SEM和FIB柱。為要求無污染環境的樣品提供最佳、完整和定制的FIB納米加工、表面分析解決方案。
聚焦離子束蝕刻系統特點全高真空設計-無污染：是第一臺超高壓設計的FIB-SEM儀器
*可定制的系統-超高壓納米空間可以定制，以便*特定需求。
在選擇時給予了*的靈活性-FIB柱、SEM柱、注氣系統和其他附加配件，視要求而定
高質量設計-*的條件和*的雙光束幾何允許
原位掃描電鏡與優質二次鋼的相關性
單個儀器中的離子質譜圖像
高分辨率成像-納米空間可以集成靜電掃描電鏡或，既能產生高質量圖像的磁性掃描電鏡
準確的樣品控制-超高真空兼容6軸工作臺允許裝載樣品，長度和寬度小于或等于100 mm
全自動儀器-納米空間控制和成像軟件,符合人體工程學，易于使用。真空系統*關閉自動化，以確保安全，快速和方便的真空操作
特高壓連接-特高壓中間室的設計是為了確保與特高壓第三方*連接的儀表,系統、工藝集群或同步加速器束線
還可以配備超高壓兼容的氣體注入系統（GIS），用于局部金屬沉積和選擇性蝕刻。也可以通過超高壓中間室與第三方系統（如MBE集群、表面分析儀器）進行現場連接。這種連接性拓寬了納米空間的應用范圍。
Vacuum Performances | ||
Main Chamber Vacuum | 5.10-10 mbar | |
UHV Configuration | Maximum instrument bakeout temperature is 120°C | |
Sample Main Chamber Introduction | 30 min | |
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