鍍膜按類型劃分，首先可以分為：干式鍍膜和濕式鍍膜兩種。

其中干式鍍膜主要有：真空蒸發鍍膜、濺射鍍膜、真空離子鍍膜3種

真空蒸發鍍膜可細分為：

電阻蒸發鍍膜（適用于蒸發低熔點材料，如金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等）

電子束蒸發鍍膜（可蒸發難熔金屬，如鉬、鎢、鍺、二氧化硅、氧化鋁等）

高頻感應加熱蒸發鍍膜（蒸發速率達，蒸發源溫度穩定，操作簡單，對材料純度要求較寬。）

電弧加熱蒸發鍍膜（特別適用于熔點高，同時具有一定導電性的材料，如石墨；裝置簡單，較廉價，缺點是放電產生的微米級顆粒會影響膜的一致性）

激光束蒸發鍍膜（可蒸發任何高熔點材料）

反應蒸發鍍膜（蒸鍍難熔化合物，如氟化鎂、氧化鋇、氧化錫等）

濺射鍍膜可分為：

直流二極濺射：僅適用于導電膜

直流三極濺射：僅適用于導電膜

直流四極濺射：僅適用于導電膜

射頻濺射：采用射頻電源，可鍍氧化硅，氧化鋁材料

對向靶濺射：可提高沉積速率，制取磁性鐵、鎳和其他磁性合金膜

離子束（IBS）濺射：利用離子源發出離子

磁控濺射：在直流二極濺射的基礎上，在靶材后面安放了磁鋼，使用弧光發電，用于蒸發源。

真空離子鍍膜可分為：

陰極電弧離子鍍：提高了沉積速率和膜的質量；還可生成致密均勻，附著力優良的化合物膜

空心陰極離子鍍：使用空心陰極等離子電子束

多弧離子鍍

濕式鍍膜可分四種：

電鍍

陽極氧化

化學鍍

化學轉化膜處理