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EMS550離子濺射鍍膜儀

  • 發(fā)布日期:
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  • 2025年2月22日
  • 2025年8月22日
  • 北京北京市
  • 美國
  • 414次

【產(chǎn)品簡介】

非常適合實驗室科學研究的一款鍍膜儀器,精確、穩(wěn)定、耐用。


【詳細說明】

什么是離子濺射鍍膜?

    在陽極與陰極之間使用合適的氣體(常用的是氬氣)和電壓,當出現(xiàn)輝光放電時,陰極材料在氣體離子的轟擊下將侵蝕目標材料,這個過程就叫離子濺射。其結果是濺射出來的原子(陰極材料)將在樣本(通常樣本固定于陽極上)表面形成一層薄膜,均勻分布在樣本的表面。
陰極材料通常使用金,習慣稱之為金靶。
EMS550離子濺射鍍膜儀

   

    EMS 550具有旋轉樣品臺,可傾斜,適合各種樣品。參數(shù)可預設,全自動控制保證獲得精確的鍍層厚度。 低電壓濺射、冷濺射、精細顆粒等功能的使用,大大提高了工作效率。腔室直徑為165 mm(6英寸),非常方便裝載及移走樣品。 儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶(可選)??蛇x靶材包括金/鈀,鉑/鈀和鉑。 各種功能都集中設計在儀表板上,使用方便,滿足不同學科的用戶使用要求。 濺射參數(shù)可預設,包括氣體放氣針閥(此閥為電磁閥),一旦設置,就不需要再調(diào)節(jié)。濺射頭互鎖,系統(tǒng)可選配EMS250鍍碳附件。

    本儀器為全自動操作,可控制獨立的真空泵。


性能特征
o  復合樣本固定器
o  旋轉且可傾斜樣品臺
o  全自動控制
o  低耗冷卻系統(tǒng),無需冷卻樣本及樣品臺
o  低壓濺射
o  高質(zhì)量鍍層厚度(2nm 金膜).
o  精確的可重復性能
o  均勻沉積厚度(20nm或20埃)
o  微電子控制
o  聚碳酸脂安全殼體
 

性能參數(shù):

1.儀器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H
2.工作腔室:硼硅酸鹽玻璃 165mm Dia x 125mm H
3.安全鐘罩:聚碳酸酯
4.重量:18公斤
5.靶:60 mm 直徑 x 0.1mm 厚(金靶為標準靶面)
6.樣品臺直徑為60 mm,靶面距在25mm-45mm之間可調(diào)
7.真空范圍:ATM-1x10-2 mbar
8.沉積電流范圍:0-50mA
9.沉積速率:0-25nm/分
10.濺射時間:0-4 分鐘
11.預設置針閥:控制氬
12.電源:230 伏 50Hz (10 amp max. including Pump)
 
定購說明:
名稱:EMS550離子濺射鍍膜機
名稱:EMS500離子濺射鍍膜機
EMS500為EMS550的的手動型號(無旋轉樣品臺),其它參數(shù)均同。

    
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