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當前位置：上海皓越真空設備有限公司>>產品展示>>C系列-氣相沉積爐
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熱誘導化學氣相沉積 (英語:chemical vapor deposition ,CVD)是用于各種電介質,半導體和金屬材料的保護涂層的沉積的有力方式，無論是單...
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