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上海皓越真空設備有限公司
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CVD管式爐爐體采用雙層爐殼結(jié)構(gòu)

時間：2016-8-1閱讀：4922
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 CVD管式爐用途:
 
    CVD管式爐主要用途陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實驗、材料處理、高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。
 
CVD管式爐詳細介紹:
 
    1、CVD管式爐爐體采用雙層爐殼結(jié)構(gòu)，雙層爐殼之間裝有風機，可以快速升降溫，爐殼表面溫度低。
 
    2、爐管采用99高純剛玉管、兩端用不銹鋼304高真空法蘭密封。
 
    3、爐膛材料采用的進口氧化鋁多晶纖維真空吸附制成，節(jié)能50%，加熱元件采用硅鉬棒。
 
    4、電爐溫度控制系統(tǒng)采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、模糊控制、自整定能力并可編制各種升溫程序等功能，該控制系統(tǒng)溫度顯示精度為1℃，溫場穩(wěn)定度±5℃，升溫速率1~20℃可任意設置。
 
    5、真空度可以達到10Pa，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產(chǎn)品。

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