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1、對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

2、對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。

    根據(jù)槽開口尺寸的不同，可在浴槽內(nèi)進行恒溫實驗，亦可通過軟管與其他設(shè)備相連接，與恒溫源配套使用。內(nèi)循環(huán)：通過泵對槽內(nèi)液體介質(zhì)的循環(huán)吞吐，增加槽內(nèi)溫度的均勻性，減少溫度波動。外循環(huán)：通過泵的循環(huán)能力，利用出水口將保溫軟管與外部設(shè)備連接，形成封閉回路，流回設(shè)備進水口，是將槽內(nèi)恒溫介質(zhì)外引，建立外部恒溫場。制冷能力在10KW以上大型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應(yīng)用于X－衍射儀、磁質(zhì)譜儀、疲勞試驗機、真空鍍膜機、塑料成形設(shè)備、激光切割機、X－熒光光譜儀、紅外光譜儀、差熱分析儀、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設(shè)備。