當樣品在高能X射線照射時，會導致原子內層電子躍遷并產生暫時的空位，同時處于不穩定態的原子捕獲外層電子迅速填充這些空位。在此過程中，由躍遷釋放的能量以熒光X射線的形式放出，熒光 X 射線能量特征則與樣品中存在的每個元素相關，X射線熒光分析儀可通過捕獲這些被釋放的X射線，確定樣品中特定感興趣元素的濃度。


瑞士萬通2060 XRF過程分析儀在能量色散X射線熒光家族中獨樹一幟。其設計著重于質量和過程控制并考慮到多個采樣點和用戶友好操作。

1、免試劑無損分析

2060 XRF過程分析儀是瑞士萬通過程分析針對液體樣品中鎂到鈾元素（z=12至92）新開發的過程分析儀,。XRF分析作為一種非接觸和免試劑分析技術，它不僅將樣品污染的風險降至非常低，而且能有效地減少廢液排放。

2、功能強大

為使XRF分析理想化，2060 XRF 分析儀搭載了過程分析技術（PAT）先進的專業軟件。該過程分析儀預裝兩套專業軟件：IMPACT和VantaTM。IMPACT作為用戶界面,實現智能編程、結果顯示以及與工廠控制室的通信。VantaTM管理處理分析數據。兩套軟件的組合使2060 XRF 過程分析儀成為在線監控的工具,為過程分析提供了更大的幫助。

3、一個分析平臺完成不同分析

2060 XRF過程分析儀連續收集數據,全天候無縫運行。其先進的編程能力結合引入的功能增強了工廠的安全性。通過智能條件操作，分析器可以主動監控關鍵參數,用戶能夠實時做出明智的決策。如果樣本偏離設定的限制，分析儀能快速反應調整分析頻率或觸發，如滴定、光度法或加標分析等輔助分析。