原子層沉積鍍膜系統 參考價：面議
原子層沉積鍍膜系統1.ALD （傳統的熱原子層沉積）；2.PEALD （等離子增強原子層沉積）；3.Powder ALD （粉末樣品的原子層沉積）；
無掩膜曝光機-光刻機 參考價：面議
無掩膜曝光機-光刻機美國IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司憑借多年的光刻設備生產經驗和多項無掩模曝光技術，已成為無掩...
勻膠機、旋涂儀（德國產、高性能） 參考價：面議
勻膠機、旋涂儀（德國產、高性能）SPIN150i單片勻膠機/旋涂儀具有廣泛應用，包括甩干，沖洗，清潔，涂膠。臺式設計，無縫全塑料材質， 有天然聚丙烯（NPP）和...
顯影機-勻膠機 參考價：面議
顯影機-勻膠機顯影機 /濕法刻蝕機德國品質（配有防污染內襯，標配兩個大小吸盤，性能優于美國同類品牌）高精度，高可靠性，耐腐蝕，來源德國，多程序控制。
半球電子能量分析器-真空組件 參考價：面議
半球電子能量分析器-真空組件半球電子能量分析器半徑: 120mm反轉角度: 180 deg.
皮可安培計（USB接口）-材料表征 參考價：面議
皮可安培計（USB接口）-材料表征技術參數：接口輸入: BNC; 模擬輸出偏壓選項：無偏壓/ 內置偏壓 （± 90 V DC）/ 外置偏壓 （BNC）
磁控濺射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空組件 參考價：面議
磁控濺射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空組件磁控濺射源/靶槍（1英寸/2英寸/3英寸）我們提供多種口徑的圓形平面靶槍,尺寸1“, 2“ and 3“. 以及矩...
真空腔體水氣解吸附組件2 參考價：面議
真空腔體水氣解吸附組件2ZCUVE代表了水蒸氣解吸技術的新進展。*的設計可從2.75“擴展到8"法蘭尺寸，紫外線功率因數w按比例增加
射頻離子/原子源（可轉換）-真空組件 參考價：面議
射頻離子/原子源（可轉換）-真空組件射頻離子源：用于離子束沉積，離子束輔助沉積，MEMS射頻原子源：用于合成氧化物，氮化物，氫原子清洗
俄歇電子能譜儀（在線表面分析）-材料表征 參考價：面議
俄歇電子能譜儀（在線表面分析）-材料表征The microCMA is a compact （2.75“ CF mount） cylindrical mirro...
低能電子散射/俄歇譜儀 參考價：面議
低能電子散射/俄歇譜儀范圍內的電子有很大的散射截面，因此背散射電子中絕大部分是被表面或近表面的原子散射回來的，這就使低能電子衍射（LEED）成為研究表面結構的一...
反向光電子發射槍及檢測器 參考價：面議
反向光電子發射槍及檢測器IPES is used to study the empty electronic states of solids. The sam...
X射線光源-真空組件 參考價：面議
X射線光源-真空組件X射線光源（可用于X射線電子能譜） 雙陽極X射線光源多種陽極材料具有差分抽氣或者從安裝口抽氣70mm O.D. CF安裝法蘭
濺射離子槍，等離子體發生源 參考價：面議
濺射離子槍，等離子體發生源濺射清洗/表面科學中樣品表面處理, MBE and HV 濺射過程離子輔助沉積離子束濺射鍍膜反應離子刻蝕
四袋電子束蒸發器 參考價：面議
四袋電子束蒸發器Beam Evaporator is an UHV evaporator for small and medium quantities of ...
電子槍（電子損失譜，俄歇電子能譜可用） 參考價：面議
電子槍（電子損失譜，俄歇電子能譜可用）¨ Low Energy Electron Gun designed for Electron Loss Spe...
臺式磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
臺式磁控濺射鍍膜儀該系統可以作為以下功能裝置：1，研發級R&D鍍膜設備，性能優異2，具備所有研發級別的鍍膜要求3，高效的沉積速率，鍍膜時間快4， 實驗室中培訓的...
金屬有機化學氣相沉積鍍膜系統（MOCVD） 參考價：面議
金屬有機化學氣相沉積鍍膜系統（MOCVD）其反應器的設計可以根據工藝的需要很容易提升到滿足大直徑晶片生產的需要。我們也能為客戶設計以滿足客戶特殊工藝和應用的需要...
超高真空多功能薄膜制備系統 參考價：面議
超高真空多功能薄膜制備系統此系統可以配置多種沉積方式（預留各種功能接口）,高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研. 高真空條件沉積模式（使用機械泵+分子泵，或冷凝...
有機分子束沉積鍍膜系統 參考價：面議
有機分子束沉積鍍膜系統電子束蒸發系統、熱蒸發系統、超高真空蒸發系統、分子束外延MBE、有機分子束沉積OMBD、等離子增強化學氣相淀積系統PECVD/ICP Et...
在線量產型磁控濺射鍍膜系統 參考價：面議
在線量產型磁控濺射鍍膜系統 高轉換效率大容量吸收，電池可靠性長達10年抗輻射
離子束拋光系統 參考價：面議
離子束拋光系統磁隧道結介電界面涂層Rugate FiltersHigh-k 材料形狀記憶合金光電材料超導材料單一結晶GaN
離子束刻蝕設備 參考價：面議
離子束刻蝕設備離子拋光離子清洗等離子體灰化等離子體氧化、氮化表面改性 反應刻蝕 生物醫藥傳感器
PECVD+RIE等離子體增強化學氣相沉積設備 參考價：面議
PECVD+RIE等離子體增強化學氣相沉積設備該系統中的PECVD可以沉積高質量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質薄膜、光學薄膜等。標準配置射頻（...
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