光刻膠,又稱光致抗蝕劑,具有光化學性,在光的照射下溶解度發生變化,一般以液態涂覆在半導體、導體等基片表面上,曝光烘烤后成固態,它可以實現從掩膜版到基片上的圖形轉移,在后續的處理工序中保護基片不受侵蝕,是微細加工技術中的關鍵材料。

中文名稱：(9H-芴-9,9-二基)雙(亞甲基)二丙烯酸酯

英文名：9,9-Bis[(acryloyloxy)methyl]fluorene

別稱：9,9-二(丙烯酸甲酯基)基芴

CAS號：583036-99-1

分子量：334.36500

密度：N/A

沸點：N/A

分子式：C21H18O4

熔點：N/A

MSDS：N/A

閃點：N/A

EM阻劑/光刻膠/電子束抗蝕劑

納米壓印光刻膠MR-I T85系列

納米壓印光刻膠mr-NIL210

電子束光刻膠 ma-N 2400 MR-EBL 6000系列

Futurrex厚膠負性光刻膠NR5-8000/NR 26-12000P

光刻膠HD 4100系列負性PI聚酰亞胺

光刻膠BL-301負型聚酰亞胺(PI)

電子束光刻膠SU-8 GM1010電子束 負性

以上來自瑞禧生物WFF.2022.6