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產品簡介
詳細介紹
電子級超純水設備
電子行業中像電解電容、電子管、玻璃殼、硅晶片的生產中用到16-18MΩ.CM超純水,除了對水的純度要求高以外對電顆粒雜質以及TOC有更高要求，提供三種工藝 流程，并以8T/H設備描述了反滲透（RO）+EDI（電去離子）+混床方法制取超純水的設備。
一、電子行業高純水除鹽裝置應用范圍概述：
1、電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗電子管生產
2、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液顯像管和陰極射線管生產
3、配料用純水黑白顯像管熒光屏生產 玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水液晶顯示器的生產屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產中主要用于清洗硅片等。
產水水質電阻率≥18MΩ.CM（在線儀表監測為準）型號HCRO-U 1-100T/H產水量10000L/H品牌華創進水水質市政自來水，電導率≤1000μs/cm（配軟水器）規格標準機控制方式預處理：手動；反滲透：全自動控制主機尺寸 大運行重量公斤機房占地 特點全不銹鋼管路，水質水量穩定大功率KW適用行業電子、表面處理、化工、化妝品等相關行業
1、華創設備介紹 :
超純水設備采用雙級RO+EDI+混床模塊化設計模式融入華創穩流控壓技術，與前置預處理配套使用，利用反滲透原理，有效去除水中各種鹽份及雜質；系統具有工藝*、產水水質穩定、操作簡便、運行費用低、綠色環保無污染、維護方便等優點，廣泛應用于醫藥及相關行業。
2、華創產品優勢
（1）整體采用超低壓滲透過濾技術，更可節能可達20%以上，長期下來可謂您節省大量電費，降低運營成本。
（2）華創技術支持，設備運行穩定性高，設計采用穩流控壓技術，降低膜損耗，延長膜使用壽命。
（3）便捷操作，維護簡便，看一遍就能學會。
（4）品牌質量保障：質保一年，售后上門。
3、產品設計優勢
（1）系統采用新水處理技術雙級RO+EDI+混床模塊化設計，嚴格按新技術設計標準，確保水質穩定，長效運行。（采用 EDI系統運行時無需加鹽，水質穩定）
（2）通過專業技術設計，確保系統短時停機及長時間停機時水質保持穩定。
（3）通過專業技術保證終端出水恒壓、水質穩定。
（4）通過完善的技術，大限度的提高系統回收率，降低能耗和運行成本。
（5）采用海德能ESPA2超低壓膜，運行穩定，能耗低。
（6）采用PH調節系統以確保水溫下降或原水PH值偏低時EDI出水水質。
（7）配備專門的有化學清洗系統，可定期對反滲透進行化學清洗，以確保系統穩定運行。
（8）配備濃水置換專業技術，防止膜系統受到微生物污染。
（9）EDI及后段出水采用超純水管道，大限度的保證出水水質。
（10）EDI水箱采用氮封裝置，以確保終端水質穩定及延長核能混床壽命。
（11）采用PLC加觸摸屏控制系統，并采用進口電氣原件，操作方便，運行穩定。
（12）主題材料全部采用行業內品牌，保質保量，并按配置設計。
4：工藝流程圖：
5.系統設備功用：
（1）砂濾器，功用：初步去除水中泥沙、雜質、懸浮物以及其它微粒等降低水的濁度。
（2）碳濾器，功用：利用碳的吸附原理吸附水中異色、異味、余氯等。
（3）軟水器，功用：置換水中鈣鎂離子，降低水的硬度。
（4）反滲透主機，功用：主要是通過反滲透過濾，達到生產純水之目的。
（5）EDI系統，功用：EDI系統又稱連續電除鹽技術，通過陽陰離子膜對陽陰離子的選
擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，在電場的作用下實現水中離
子的定向遷移，從而達到水的深度凈化除鹽，并通過水電解產生的氫離子和氫氧根
離子對裝填樹脂進行連續再生。
（6）核能混床，功用：進一步提升水質，保證出水符合要求。
三、處理后水質標準
經過高純水除鹽設備后，出水水質可以滿足顯像管、液晶顯示器、 集成電路用水標準。 國家電子級純水標準、 美國SEMI標準。
四、電子級超純水設備特點
為滿足用戶生產工藝用水需求，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量。在工藝設計上，源水（市政自來水），經多介質過濾器，活性碳過濾器，鈉型陽離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電除鹽系統）裝置等。 系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，由PLC控制系統完成包括阻垢劑計量泵、高壓泵、電動慢開門的順序啟動和停止；停運時反滲透裝置的自動低壓沖洗；運行過程中低壓壓力開關與系統的連鎖運行；各轉動設備的運行監測和報警等。
公司生產的電子行業高純水除鹽裝置、超純水處理設備、反滲透脫鹽機組可滿足電子行業不同客戶對生產工藝用水的需求。