等離子體清洗機(jī)的干式處理在對(duì)半導(dǎo)體器件的性能提升上具有顯著的優(yōu)勢(shì)，等離子清洗機(jī)可清洗晶圓表面的顆粒、有機(jī)物、金屬雜質(zhì)、氧化物

等離子體清洗機(jī)去除晶圓表面光刻膠

等離子體清洗機(jī)在處理晶圓表面光刻膠時(shí)，等離子表面清洗能夠去除表面光刻膠和其余有機(jī)物，也可以通過(guò)等離子活化和粗化作用，對(duì)晶圓表面進(jìn)行處理，能有效提高其表面浸潤(rùn)性。相比于傳統(tǒng)的濕式化學(xué)方法，等離子體清洗機(jī)干式處理的可控性更強(qiáng)，一致性更好，并且對(duì)基體沒(méi)有損害。

晶圓等離子清洗機(jī)（等離子灰化/去光刻膠/聚合物剝離/預(yù)處理/介電質(zhì)刻蝕/晶圓凸點(diǎn)/有機(jī)污染去除/晶圓減薄）等離子處理設(shè)備