實驗室反應釜腐蝕的特性是：縱向生長是孔蝕的分布特征，并在一段很長的孕育期，數月或數年后才會出現可見的孔蝕，這主要取決于金屬材料和腐蝕介質的種類。當PH值增時，出現度局部孔蝕（呈現加速趨勢），它是陽極反應的一種特形態，是一種自催化過程，在孔蝕內腐蝕過程產生的條件既促進又足以維持蝕孔的活性，金屬在蝕孔內的迅速溶解會英氣蝕孔內產生過多的癥電荷，其結果就是使得氯離子遷入以維持店中性。蝕孔內濃度的氯化物水解，其結果會產生濃度的氫離子。
以上這兩種離子都足以促進大多數金屬和合金的溶解，其破損暴露的金屬表面成為陽極，未破損的成為陰極，陽極電流度集中，使得腐蝕迅速向內發展形成蝕孔，通過自身的促進作用，蝕孔快速生長。因此，介質易滯留的部位是孔蝕的多發區。
對于上部的氣相空間，孔蝕多發于此，因為其視鏡和人孔部位等接管本身擁有一定的非流通空間，氫離子和氯離子可以在此處有較長時間的滯留，從而產生劇烈的孔蝕。蝕孔中留有濃度的化合物鹽，由于氧在濃縮溶液中的溶解度實際上等于零，所以蝕孔內不存在氧的還原。隨著蝕孔的加深，其介質濃度越來越，滯留時間越來越長，腐蝕速率也越來越快，而蝕孔附近的表面產生陰極氧花奴元使得它不受腐蝕。
在介質靜滯的條件下，尤其是有覆蓋物的表面上，不銹鋼微型反應釜孔蝕通常多發生與此，然而在有流速的環境中，通常會使得孔蝕減輕或基本停止，從而減輕反應釜的腐蝕。