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上海添時科學儀器有限公司

高真空蒸發鍍膜儀可為薄膜應用提供理想涂層平臺

時間:2021-7-13 閱讀:1104
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高真空蒸發鍍膜儀可以為薄膜應用和其他材料提供理想的涂層平臺,特別適用于場發射電子顯微鏡,透射電子顯微鏡和非晶碳熔覆/TEM網格支撐膜的樣品制備。是全自動程序控制,彩色觸摸屏界面,操作簡單,可以鍍金鉑和其他非氧化的貴金屬和其他易氧化膜材料的細顆粒。

  高真空蒸發鍍膜儀是具有靈活性和模塊化可擴展性的多功能系統,可以適應不同的樣品制備。它可用于蒸發蒸籠和坩堝中的碳和金屬,以及可選的濺射附件蒸發。可以應用一系列行之有效的技術,包括碳涂層和TEM涂層,碳/金屬蒸發,使用雙源蒸發的低角度涂層和順序涂層,以及可選的濺射鍍膜附件可以應用于多種目標。其設計使其操作更容易實現。

  1、使用微處理器控制器可以增強系統的靈活性,并且用戶可以輕松添加各種選項。但是,這些“默認"操作已經過優化,因此可以實現自動和手動操作。

  2、*的抽屜式樣品裝載系統便于用戶放入各種樣品,而鉸接式頂蓋結構易于到達系統的其他區域。

  3、渦輪分子泵安裝在系統外部,可以輕松安裝和更換高真空蒸發鍍膜儀。它的前真空是旋轉真空泵。整個泵送過程是*自動化的,在達到高真空后會蒸發。該儀器是臺式機,使用中的疏忽易于控制且易于損壞。


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