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產品簡介
詳細介紹
是依據二極（DC）直流濺射原理設計而成的，zui簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。同時增加了熱蒸發附件，具有濺射和蒸發兩種功能。
滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導體材料實驗電極制作。
特點：
增加了熱蒸發附件，可以蒸發碳絲，具有濺射和蒸發兩種功能。因此擴展了應用范圍，特別適用于掃描電鏡實驗室樣品制備。
配置參數：
- 儀器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
- 真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
- 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H）
- 樣品臺： 50mm （D）
- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作電壓： 0-1600V （DC）可調
- 濺射電流： 0-50mA
- 濺射定時： 1-9999S
- 蒸碳電流 0-10A（AC）
- 真空泵： 4升兩級機械旋轉泵（極限真空2×10-2mbar）