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常溫常壓下的光解水制氫，無疑是zui符合工業化發展方向，非真空環境更加接近真實的工業環境，可以探索工業條件下的光解水制氫。革命性的測量系統，新型反應器，長時間連續測量，從極低的產氫量到較大產氣量全覆蓋。
傳統裝置由于受制于自身的設計，對于產率超過十幾 mmol/g/h 的催化劑會測量不準確甚至無法測量。目前很多催化劑的產氫已變得越來越大，為了滿足裝置的要求，一般多通過減少催化劑的加入量(20 mg)來控制產氫量。實際上較科學的催化劑加入量應為80 mg左右（催化劑越少，誤差越大）
產率高的催化劑，短時間內產生相對多的氣體，使得真空度急劇降低，往往造成傳統裝置無法繼續工作。因此目前有些用戶產率做高了，就沒有實驗裝置可用了。
重復性好：直接計量產氣量，避免傳統裝置循環不
暢所致的測量誤差，實驗重復性更好
不會漏氣: 由于附加設備少,連接簡單,加上設計
的新型反應器,氣密性好
自動測量：RTK GMC技術，實時自動記錄測
量數據，無需GC，無標定誤差
無需計算：解決了傳統裝置產氫量計算誤差，直接
測量產氫體積（或質量、產氫速率）