| 直流濺射等離子實驗裝置 型號：ZH5502 | 貨號：ZH5502 |
| 產品簡介 裝置包括可拆卸的濺射腔體、濺射靶臺、真空抽氣系統、測量系統、進氣系統等部分組成。 本實驗采用同軸二濺射結構，在真空室內以沉積材料為陰，加工樣品為陽，工作期間兩間加直流電壓引起放電，放電氣體中的離子被加速轟擊靶面，濺射粒子沉積在基片表面成膜。 可以完成光學薄膜材料的制備及其光學特性的測量、金屬薄膜的制備等實驗。通過這些實驗可讓實驗者理解直流濺射原理，掌握直流濺射薄膜材料的方法。 主要特點： 1 濺射靶臺和濺射靶距離可調節，研究在不同距離時對薄膜濺射的影響； 2 濺射基片可進行加熱，加熱溫度可控，研究基片溫度對薄膜濺射的影響； 3 濺射氣壓、濺射氣源流量可調節，研究不同氣壓、氣源流量對薄膜濺射的影響； 4 反應腔體采用石英玻璃管，可直觀地觀察到濺射現象； 5 工作氣體可調節換，并可多路氣體混合工作。 主要參數及性能： 1、濺射腔體外形尺寸：φ140mm×150mm； 2、濺射靶臺：φ70mm×20mm； 3、濺射靶臺和濺射靶可調距離：10~50mm； 4、基片加熱溫度可控范圍：室溫~80℃； 5、濺射氣壓可調范圍：10Pa~200Pa; 6、濺射電壓：0V~1000V連續可調； 7、濺射電流：0~200mA可測； 8、氣源流量可控范圍：6~60ml/min；25~250ml/min； 9、供電電源：AC220V，50HZ； 10、整機功率：1.5KW。 |  |
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