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賽默飛電子顯微鏡

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場發(fā)射掃描電子顯微鏡的工作原理及優(yōu)點(diǎn)介紹

閱讀：1231 發(fā)布時(shí)間：2023-3-15

　　場發(fā)射掃描電子顯微鏡具有超高分辨率，具有高性能X射線能譜儀，能同時(shí)進(jìn)行樣品表層的微區(qū)點(diǎn)線面元素的定性、半定量及定量分析，具有形貌、化學(xué)組分綜合分析能力，能做各種固態(tài)樣品表面形貌的二次電子象、反射電子象觀察及圖像處理。

　　場發(fā)射掃描電子顯微鏡的工作原理：

　　場發(fā)射掃描電子顯微鏡的原理是利用二次電子或背散射電子成像，對(duì)樣品表面放大一定的倍數(shù)進(jìn)行形貌觀察，同時(shí)利用電子激發(fā)出樣品表面的特征X射線來對(duì)微區(qū)的成分進(jìn)行定性定量分析，是材料研究分析中一雙亮麗的“眼睛”。

　　場發(fā)射掃描電子顯微鏡的主要優(yōu)點(diǎn)：

　　1、有較高的放大倍數(shù)，20-30萬倍之間連續(xù)可調(diào)；

　　2、有很大的景深，視野大，成像富有立體感，可直接觀察各種試樣凹凸不平表面的細(xì)微結(jié)構(gòu)；

　　3、試樣制備簡單，目前的掃描電鏡都配有X射線能譜儀(EDS)裝置，這樣可以同時(shí)進(jìn)行顯微組織形貌的觀察和微區(qū)成分分析。

　　場發(fā)射掃描電子顯微鏡適用于對(duì)金屬、陶瓷、半導(dǎo)體、礦物、生物、高分子、復(fù)合材料和納米級(jí)一維、二維和三維材料的表面形貌進(jìn)行觀察(二次電子像、背散射電子像)；可進(jìn)行微區(qū)的點(diǎn)、線、面成分分析；元素在形貌上成象；晶體材料的晶體取向及微區(qū)取向分析、結(jié)構(gòu)分析、正反極圖、歐拉空間分析等；圖象定量分析。

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