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真空紫外線表面清潔晶片

真空紫外線表面活化

如何使用紫外線活化及清潔表面？

高能紫外線光子能夠以分子有機鍵合的方式在表面附近或其上被拆解。
開放的鍵合點則將在zui短時間內重新形成化學穩定狀態。
以周圍環境或臭氧中的氧氣為例，其將通過紫外線輻射作用從周圍氧氣中生成并作為此時的反應劑使用。由此生成的原子及原子團將使已拆解的鍵合達到飽和，從而在表面周圍形成全新的化合物。

常規周圍空氣中進行紫外線處理通常會形成的羥基、羰基和/或羧基，這一結果可借助 ATR 及 XPS 測量予以證明。經過上述處理后，表面可具備更高的極性，從而不僅影響了附著力，而且影響了表面能量。

表面活化及清潔的應用領域

--活化與清潔具有有機性的表面，如塑料

--因吸收有機污物而必須予以清潔的表面，如金屬或玻璃

表面活化及清潔的產品

使用紫外線處理表面時，可使用特種光源，此類光源能夠產生低于 200 nm 低位光譜范圍內的高比重輻射。

--波長為 172 nm 的紫外線準分子輻射器

--發射波長為 185 和 254 nm 的紫外線汞輻射器

紫外線活化和清潔表面的優勢

--通過提高表面能量優化浸潤性

--不使用化學物質，因而環保

--不傷及材料

--工藝簡單